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公开(公告)号：CN216838174U
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202220553199.0
申请日：2022-03-15
Applicant: 上海大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/40
Abstract: 本实用新型公开一种基于ALD技术的薄膜制备装置，涉及薄膜制备技术领域，包括：芯片基板、反应单元、供水/供臭氧单元、用于盛装不同反应物的若干个反应物容量瓶、内部环境为真空的混气罐，若干个反应物容量瓶分别通过电磁阀与混气罐的进气口相连通，混气罐的出气口通过电磁阀与反应腔室连通，混气罐内设置有用于搅动气流的风机组；本实用新型中在不同反应物进入反应腔室之前，先进入到混气罐内进行混合，并利用风机组的搅动作用提高不同反应物间的混合效果，混合后的混合物进入到反应腔室内并与后续通入的水或臭氧进行反应，在芯片基板上形成掺杂混合薄膜，且形成的掺杂混合薄膜是在同一(原子)层里实现掺杂，提高了薄膜的机械和光电性能。
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