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公开(公告)号：CN115643518A
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN202211099061.9
申请日：2022-09-07
Applicant: 上海大学
IPC: H04R23/00
Abstract: 本发明涉及一种双膜片复合式光学麦克风，包括封装套管、反射膜片、波导结构和单模光纤，封装套管的一端开口，封装套管的内部具有一横向延伸的空腔，空腔于封装套管的另一端设置有一通孔；反射膜片设置于封装套管的开口端；波导结构容置于封装套管的空腔内，波导结构连接所述反射膜片；单模光纤通过通孔容置于封装套管的空腔内，且单模光纤的一端连接波导结构。本发明采用单模光纤、波导结构和反射膜片构成双膜结构，在有声压作用时，反射膜片与波导结构同时形变且波导结构的折射率发生改变，以提高传感器声压灵敏度和频率响应范围。
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公开(公告)号：CN115014498A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210619118.7
申请日：2022-06-01
Applicant: 上海大学
IPC: G01H9/00
Abstract: 本发明公开提出了一种光纤谐振式法布里珀罗超声传感器件，采用基于双光子聚合的3D打印技术，在单模光纤端面上制备光学式超声传感器，传感器几何尺寸小于100微米，超声传感器结构包括圆形连接膜片、弹簧谐振支撑体和圆形反射膜片，其中弹簧和反射膜片组成法布里珀罗谐振腔，外部声压作用于反射膜片上时，声频频较低时，弹簧固有结构特征频率处于低频范围，腔体会随着弹簧带动的膜片发生较大形变；声频较高时，反射膜片结构固有的结构特征频率处于高频范围，腔体长度会随着膜片振动发生变化，通过检测干涉光强变化实现对超声波信号探测，该超声传感器结构能够实现高频和低频超声信号探测，且高频和低频共振频率处灵敏度高。
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公开(公告)号：CN115014498B
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202210619118.7
申请日：2022-06-01
Applicant: 上海大学
IPC: G01H9/00
Abstract: 本发明公开提出了一种光纤谐振式法布里珀罗超声传感器件，采用基于双光子聚合的3D打印技术，在单模光纤端面上制备光学式超声传感器，传感器几何尺寸小于100微米，超声传感器结构包括圆形连接膜片、弹簧谐振支撑体和圆形反射膜片，其中弹簧和反射膜片组成法布里珀罗谐振腔，外部声压作用于反射膜片上时，声频频较低时，弹簧固有结构特征频率处于低频范围，腔体会随着弹簧带动的膜片发生较大形变；声频较高时，反射膜片结构固有的结构特征频率处于高频范围，腔体长度会随着膜片振动发生变化，通过检测干涉光强变化实现对超声波信号探测，该超声传感器结构能够实现高频和低频超声信号探测，且高频和低频共振频率处灵敏度高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113064329B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202110321468.0
申请日：2021-03-25
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤端超透镜的笔光刻系统和制备方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。本发明在单模光纤端面借助双光子激光直写技术制备超透镜，将制备的超透镜与其他光学器件结合搭建笔光刻系统。由于超透镜能够解决现有透镜技术中存在的灵活性差、尺寸受限、效率低等问题，并且能够实现对于光束相位、幅度、偏振完全控制，克服了传统笔光刻系统体积大、成本昂贵、效率低、难以集成等问题；本系统通过结合光纤端超透镜，能够在任意基底材料和制备环境下高精度地制备微纳器件，节约制备成本和时间。
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公开(公告)号：CN113031149B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202110368228.6
申请日：2021-04-06
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明公开了一种基于微流控型双光子激光直写技术的超长三维纳米光纤制备系统及方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。该系统包括三维打印装置、光学成像装置和控制器；将设计好的纳米光纤导入控制器中，通过光学成像装置对打印的纳米光纤进行实时监测，并且调整激光聚焦位置；三维打印装置将聚焦后的飞秒激光照射至空芯光纤中的光敏复合材料，引发双光子聚合为纳米光纤，在泵的驱动下，纳米光纤随着光敏复合材料流动至显影腔体内，在显影液作用下，去除多余未聚合光敏复合材料，留下来制备好的纳米光纤。本发明发明采用微流控双光子直写技术，能够制备超长且具有复杂曲率的三维纳米光纤。
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公开(公告)号：CN113064329A
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN202110321468.0
申请日：2021-03-25
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤端超透镜的笔光刻系统和制备方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。本发明在单模光纤端面借助双光子激光直写技术制备超透镜，将制备的超透镜与其他光学器件结合搭建笔光刻系统。由于超透镜能够解决现有透镜技术中存在的灵活性差、尺寸受限、效率低等问题，并且能够实现对于光束相位、幅度、偏振完全控制，克服了传统笔光刻系统体积大、成本昂贵、效率低、难以集成等问题；本系统通过结合光纤端超透镜，能够在任意基底材料和制备环境下高精度地制备微纳器件，节约制备成本和时间。
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公开(公告)号：CN113031149A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202110368228.6
申请日：2021-04-06
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明公开了一种基于微流控型双光子激光直写技术的超长三维纳米光纤制备系统及方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。该系统包括三维打印装置、光学成像装置和控制器；将设计好的纳米光纤导入控制器中，通过光学成像装置对打印的纳米光纤进行实时监测，并且调整激光聚焦位置；三维打印装置将聚焦后的飞秒激光照射至空芯光纤中的光敏复合材料，引发双光子聚合为纳米光纤，在泵的驱动下，纳米光纤随着光敏复合材料流动至显影腔体内，在显影液作用下，去除多余未聚合光敏复合材料，留下来制备好的纳米光纤。本发明发明采用微流控双光子直写技术，能够制备超长且具有复杂曲率的三维纳米光纤。
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公开(公告)号：CN113050390A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202110368181.3
申请日：2021-04-06
Applicant: 上海大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于多尺度多光子光刻技术的微纳米三维结构制备系统和方法，属于光学微纳米结构制备技术领域。系统包括支撑结构、基板、光敏聚合物容器池、物镜、第一光学结构、第二光学结构、光学成像装置和控制器；所述的控制器用于控制第一光学结构、第二光学结构的启闭及工作参数，光学成像装置用于获取物镜的成像信息；所述的第一光学结构发射第一波长的光，通过物镜聚焦在光敏聚合物中，引发单光子聚合；所述的第二光学结构发射第二波长的光，通过物镜聚焦在光敏聚合物中，引发多光子聚合。对待打印的微纳米三维结构的打印数据进行高、低分辨率分割，逐层打印，在保证打印精度的基础上提高了打印速度。
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