一种薄膜太阳能电池陷光结构玻璃的制备及其应用

    公开(公告)号:CN103178156A

    公开(公告)日:2013-06-26

    申请号:CN201310039891.7

    申请日:2013-02-01

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及一种薄膜太阳能电池陷光结构玻璃的制备及其应用,该方法利用湿法刻蚀,在玻璃基片上得到半球凹坑阵列结构,结构具有周期性和对称性,拥有光子晶体的性能。首先通过光刻和显影,将模板上的图形转移到光刻胶中,之后通过去铬溶液,将图形转移到铬层中,最后通过刻蚀,在平板玻璃上得到微纳周期结构。刻蚀包括湿法刻蚀和干法刻蚀。此结构用于薄膜太阳能电池衬底,可提高入射光的透射衍射,延长光子在吸收层的传播路径,从而增加薄膜电池吸收层的陷光能力,提高电池的能量转换效率。本发明具有材料廉价、工艺简单的优点,可有效提高薄膜电池的陷光能力并降低生产成本。

    一种用于硅基薄膜太阳电池的微结构陷光方法

    公开(公告)号:CN103633193B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201310544960.X

    申请日:2013-11-05

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及一种用于硅基薄膜太阳电池的微结构陷光方法,利用微米尺度周期结构作为电池陷光部分,或微米尺度周期结构与绒面织构共同做为电池陷光部分。陷光结构制备在衬底材料上,薄膜电池可直接沉积在陷光衬底上,也可把陷光玻璃片覆盖在电池上,可有效提高电池的陷光能力,从而提高光子吸收,增加薄膜太阳电池光电转化效率。光电效率测试表明,本陷光技术可使双结非晶硅/微晶硅电池相对效率提高9.95%。本发明与现有薄膜电池制备技术兼容,不改变工艺参数情况下有效提高薄膜电池效率,并适合大面积量产。

    一种用于硅基薄膜太阳电池的微结构陷光方法

    公开(公告)号:CN103633193A

    公开(公告)日:2014-03-12

    申请号:CN201310544960.X

    申请日:2013-11-05

    CPC classification number: Y02P70/521 H01L31/02327 H01L31/02167

    Abstract: 本发明涉及一种用于硅基薄膜太阳电池的微结构陷光方法,利用微米尺度周期结构作为电池陷光部分,或微米尺度周期结构与绒面织构共同做为电池陷光部分。陷光结构制备在衬底材料上,薄膜电池可直接沉积在陷光衬底上,也可把陷光玻璃片覆盖在电池上,可有效提高电池的陷光能力,从而提高光子吸收,增加薄膜太阳电池光电转化效率。光电效率测试表明,本陷光技术可使双结非晶硅/微晶硅电池相对效率提高9.95%。本发明与现有薄膜电池制备技术兼容,不改变工艺参数情况下有效提高薄膜电池效率,并适合大面积量产。

Patent Agency Ranking