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公开(公告)号:CN103643289A
公开(公告)日:2014-03-19
申请号:CN201310643057.9
申请日:2013-12-03
Abstract: 一种半导体制造技术领域的基于化学刻蚀的单晶硅表面结构及其制备及应用方法,该单晶硅表面结构的表面为绒面且均匀分布有高度为1-3μm的金字塔结构,该金字塔结构的尖锐的棱边被平滑化且没有尖锐的顶角和棱边的单晶硅表面形貌。本发明通过对其少子寿命、表面反射率等参数的测量,发现其效果更优于普通碱液制绒的金字塔绒面。
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公开(公告)号:CN103643289B
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201310643057.9
申请日:2013-12-03
Abstract: 一种半导体制造技术领域的基于化学刻蚀的单晶硅表面结构及其制备及应用方法,该单晶硅表面结构的表面为绒面且均匀分布有高度为1-3μm的金字塔结构,该金字塔结构的尖锐的棱边被平滑化且没有尖锐的顶角和棱边的单晶硅表面形貌。本发明通过对其少子寿命、表面反射率等参数的测量,发现其效果更优于普通碱液制绒的金字塔绒面。
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公开(公告)号:CN108383733B
公开(公告)日:2020-11-24
申请号:CN201810035887.6
申请日:2018-01-15
Applicant: 上海交通大学
IPC: C07C211/50 , C07C209/78 , C08G73/10
Abstract: 本发明属于高分子材料技术领域,具体公开了一种含叔丁基和脂肪环的二胺单体及其制备方法、由其制得的聚酰亚胺和该聚酰亚胺在聚酰亚胺制品中的应用。本发明的聚酰亚胺是由含叔丁基和脂肪环的二胺单体与芳香二酐单体,在酚类溶剂中以异喹啉或者喹啉为催化剂,通过一步缩聚反应制得,所得聚酰亚胺不仅具有良好的耐热性和极好的溶解性,而且其薄膜具有高透明性,在光电器件柔性透明衬底、平板显示等领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号:CN216847560U
公开(公告)日:2022-06-28
申请号:CN202123029746.X
申请日:2021-12-03
Applicant: 中国人民解放军63921部队 , 上海交通大学
Abstract: 本实用新型公开了一种低温流体液化和固化观察仓,涉及实验设备技术领域。该低温流体液化和固化观察仓包括底座、观察盖板和挡板。底座开设有容置槽,观察盖板盖设于容置槽上,且与底座可拆卸连接,挡板设置于容置槽内,且与底座固定连接,挡板将容置槽分隔形成第一空腔和第二空腔,挡板的高度低于容置槽的侧壁的高度,以使第一空腔与第二空腔连通,底座还开设有进气孔和排气孔,进气孔与第一空腔连通,排气孔与第二空腔连通。本实用新型提供的低温流体液化和固化观察仓能够防止液态流体或者晶体在观察过程中流出,提高观察效果,便于演示各种低温流体在可控温度下的液化及凝固过程。
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