基于宏微复合力控的加工测量一体化刀具伺服系统

    公开(公告)号:CN117961644A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410292964.1

    申请日:2024-03-14

    Abstract: 本发明提供了一种基于宏微复合力控的加工测量一体化刀具伺服系统,包括:法应力电磁致动器、压电驱动器、电压式微力传感器、刀架和主控单元;所述法应力电磁致动器;所述压电驱动器与所述法应力电磁致动器串行连接,所述压电驱动器的固定端安装在所述法应力电磁驱动器的驱动端上,所述刀架固定设置在所述压电驱动器的驱动端;所述电压式微力传感器采集所述刀架振动信号,所述主控单元根据刀架移动过程中刀尖的振动信号,判断刀尖与工件是否接触,当发生接触时对刀完成。

    具有内嵌柔顺机构的法应力电磁致动器

    公开(公告)号:CN117335633A

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202311267843.3

    申请日:2023-09-27

    Abstract: 本发明提供了一种具有内嵌柔顺机构的法应力电磁致动器,包括磁轭(1)、电枢(2)、柔顺机构(3)、永磁体(4)以及线圈(5),其中:所述永磁体(4)通过磁吸力与磁轭(1)连接,所述永磁体(4)设置有两个,且两个永磁体(4)在磁轭(1)内同极相对;所述电枢(2)设置在两个永磁体(4)之间;所述线圈(5)缠绕在磁轭(1)上;所述柔顺机构(3)嵌于磁轭(1)与电枢(2)之间,柔顺机构的末端与磁轭(1)粘接,顶端与电枢(2)粘接。本发明在电磁部件间内嵌了紧凑的柔顺机构,解决了传统致动器与外置柔顺机构结合时带来的结构冗杂、体积庞大、动质量大的问题,达到了在实现预期行程的同时获得更高固有频率的效果。

    法应力电磁压电混合驱动的三维纳米定位平台

    公开(公告)号:CN116455173A

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202310458433.0

    申请日:2023-04-25

    Abstract: 本发明提供了一种法应力电磁压电混合驱动的三维纳米定位平台,包括:XY轴部分,包括基座、布置在所述基座上的XY平面柔顺机构以及分别能够为平台在X轴方向、Y轴方向提供致动力的法应力电磁致动机构;Z轴部分,通过所具有的压电致动器能够为平台在Z轴方向提供致动力。本发明面向典型应用场景中对纳米定位系统XY平面内大行程、高固有频率的需求,及Z轴超高固有频率的需求,分别采用电磁、压电的致动方式,解决了单一致动方式无法满足各运动轴间差异化性能需求的问题,达到了对各轴性能需求针对性解决的效果。

    电磁驱动可调刚度纳米定位平台
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115149767A

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN202210892980.5

    申请日:2022-07-27

    Abstract: 本发明提供了一种涉及纳米定位平台领域的电磁驱动可调刚度纳米定位平台,包括柔顺机构、法应力电磁致动器、电磁弹簧以及基座,法应力电磁致动器包括致动器定子和致动器动子,致动器定子与致动器动子两侧设有气隙,电磁弹簧包括电磁弹簧定子和电磁弹簧动子,电磁弹簧定子与电磁弹簧动子两侧设有气隙,致动器定子和电磁弹簧定子分别连接于基座上,致动器动子和电磁弹簧动子分别连接于柔顺机构的运动端,柔顺机构的固定端连接于基座上,通过电磁弹簧的可调节的负刚度,实现电磁驱动可调刚度纳米定位平台的总体刚体可调。本发明通过对电磁弹簧线圈电流的调节,实现对纳米定位平台刚度的调节,可以实现高刚度状态、低刚度状态及二者间任意中间状态的在线切换,能够突破传统纳米定位平台刚度固定、固有频率与行程间存在不可调和矛盾的瓶颈,能够适应更加广泛的应用场景。

    法应力电磁驱动定位系统的机电同步优化方法及系统

    公开(公告)号:CN118194455A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202410292980.0

    申请日:2024-03-14

    Abstract: 本发明提供了一种法应力电磁驱动定位系统的机电同步优化方法及系统,包括:步骤S1:根据法应力电磁驱动定位系统结构,建立机电参数同步优化模型;步骤S2:基于机电参数同步优化模型选择优化参数,采用优化算法针对优化参数进行解算,获得满足目标的全局最优解。本发明通过提出法应力电磁驱动纳米定位系统的机电参数同步优化设计方法,得到了系统全局最优的机械参数和电磁参数,以进一步提高系统的行程和一阶谐振频率,满足纳米定位系统中各类大行程和高带宽的应用需求。

    具有区域适应性的光顺抛光路径规划方法及系统

    公开(公告)号:CN115952568A

    公开(公告)日:2023-04-11

    申请号:CN202211624648.7

    申请日:2022-12-16

    Abstract: 本发明提供一种具有区域适应性的光顺抛光路径规划方法及系统,首先从驻留时间密度矩阵上提取等高线,并建立等高线树,借助等高线树识别待去除面型的峰区和谷区;然后,利用分水岭分割算法将整个面型划分为只含独立峰区或谷区的多个子区域,获取子区域边界信息与子区域间的邻接关系;接着,采用回溯法求取遍历各子区域的哈密顿通路,对每个子区域内分别进行变间距双螺旋路径规划,并使得顺序相邻的子路径端点相接。本发明在进行抛光路径规划时考虑了面型特征对路径生成与刀具运动速度的影响,有利于提高刀具运动速度光顺性,减小速度的波动,进而在机床动态性能有限的情况下仍能保证刀具运动轨迹跟踪精度,有利于提高子孔径确定性抛光的加工精度。

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