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公开(公告)号:CN101327929A
公开(公告)日:2008-12-24
申请号:CN200810041205.9
申请日:2008-07-31
Applicant: 上海交通大学
IPC: C01B31/36
Abstract: 一种纳米技术领域的快速制备SiC纳米线的方法。本发明步骤为:a.按照质量百分比将SiO粉为33.3%-66.7%、焦炭为33.3%-66.7%进行混合;b.将混合物放入球磨机,球磨,制备反应原料;c.将反应原料放入石墨管制作的坩埚中,置于密闭石英管内,使用真空泵抽真空;d.在石英管内通入氩气或者氮气,调节进气流量,控制管内气压在0.02-0.04MPa;e.采用石英管外缠绕的高频感应电源线圈对石墨坩埚进行加热,在3min内升至1600℃,保温;f.氩气或者氮气保护下随炉冷却至室温,即得到SiC纳米线。本发明解决了现有SiC纳米线制备中工艺复杂、成本高、周期长、条件难控制等问题。
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公开(公告)号:CN101327929B
公开(公告)日:2010-09-08
申请号:CN200810041205.9
申请日:2008-07-31
Applicant: 上海交通大学
IPC: C01B31/36
Abstract: 一种纳米技术领域的快速制备SiC纳米线的方法。本发明步骤为:a、按照质量百分比将SiO粉为33.3%-66.7%、焦炭为33.3%-66.7%进行混合;b、将混合物放入球磨机,球磨,制备反应原料;c、将反应原料放入石墨管制作的坩埚中,置于密闭石英管内,使用真空泵抽真空;d、在石英管内通入氩气或者氮气,调节进气流量,控制管内气压在0.02-0.04MPa;e、采用石英管外缠绕的高频感应电源线圈对石墨坩埚进行加热,在3min内升至1600℃,保温;f、氩气或者氮气保护下随炉冷却至室温,即得到SiC纳米线。本发明解决了现有SiC纳米线制备中工艺复杂、成本高、周期长、条件难控制等问题。
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