光敏交联剂及其制备方法、用途

    公开(公告)号:CN107602886A

    公开(公告)日:2018-01-19

    申请号:CN201710842707.0

    申请日:2017-09-18

    Abstract: 本发明公开了一种光敏交联剂及其制备方法、用途。所述光交联剂为支状苯二酮类光交联剂。本发明制备得到的交联剂能够通过UVA光照射,在很短的光照时间内,不需要催化剂,不产生副产物的条件下就能实现有效的交联过程。采用本发明的新型的光交联方法,仅需交联剂与基体材料简单混合后紫外辐射即可制备交联的聚合物材料。本发明所得的交联绝缘层材料适合溶液法制备各种有机场效应晶体管器件,是一种性能优异的交联的聚合物绝缘层材料。本发明所得的交联空穴传导层材料适合各种有机电致发光显示器件中溶液法制备有机薄膜,是一种性能优异的交联的聚合物空穴传导层材料。

    光敏交联剂及其制备方法、用途

    公开(公告)号:CN107602886B

    公开(公告)日:2021-02-12

    申请号:CN201710842707.0

    申请日:2017-09-18

    Abstract: 本发明公开了一种光敏交联剂及其制备方法、用途。所述光交联剂为支状苯二酮类光交联剂。本发明制备得到的交联剂能够通过UVA光照射,在很短的光照时间内,不需要催化剂,不产生副产物的条件下就能实现有效的交联过程。采用本发明的新型的光交联方法,仅需交联剂与基体材料简单混合后紫外辐射即可制备交联的聚合物材料。本发明所得的交联绝缘层材料适合溶液法制备各种有机场效应晶体管器件,是一种性能优异的交联的聚合物绝缘层材料。本发明所得的交联空穴传导层材料适合各种有机电致发光显示器件中溶液法制备有机薄膜,是一种性能优异的交联的聚合物空穴传导层材料。

    一种含联二炔基的交联空穴传输材料及其制备方法与用途

    公开(公告)号:CN111961194A

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN202010801937.4

    申请日:2020-08-11

    Abstract: 本发明公开了一种含联二炔基的交联空穴传输材料及其制备方法与用途,属于有机光电技术领域;所述空穴传输材料以4,4,-双(N-咔唑)-1,1,-联苯为母核,联二炔为交联基团的聚合物空穴传输材料。该材料在联二炔基聚合物在紫外光或加热的条件下发生自由基偶合反应,形成三维网络结构实现材料交联,得到具有抗溶剂性的交联材料,实现全溶液法制备发光器件。这种光交联方法不需要加入引发剂或催化剂,反应温度低、交联时间较短、反应过程无副产物、以及交联前后对空穴传输材料的电学及光学性质影响较小。本发明所得的交联空穴传输材料适合溶液法制备有机电致发光显示器件,在溶液法制备有机电子领域具有广阔的应用前景。

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