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公开(公告)号：CN116735545A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310129033.5
申请日：2023-02-03
Applicant: 三菱重工业株式会社 , 国立研究开发法人理化学研究所
Abstract: 本发明提供一种能够检查位于难透过材料的下层的检查对象物的检查装置。检查装置具备：光源，其输出时间宽度为10皮秒至10纳秒的脉冲激发光；非线性光学晶体，其通过所述脉冲激发光的光波长转换而产生太赫兹波；偏振部，其反射所述太赫兹波由检查对象物反射后的反射波的至少一部分；以及检测器，其检测由所述偏振部反射后的反射波。
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公开(公告)号：CN116735524A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310118397.3
申请日：2023-02-03
Applicant: 三菱重工业株式会社 , 国立研究开发法人理化学研究所
IPC: G01N21/3581 , G01N21/01
Abstract: 本发明提供一种能够检查位于难透过材料的下层的检查对象物的检查装置。检查装置具备：光源，其输出时间宽度为10皮秒至10纳秒的脉冲激发光；非线性光学晶体，其通过所述激发光的光波长转换而产生太赫兹波；以及检测器，其检测所述太赫兹波由检查对象物反射后的反射波。
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公开(公告)号：CN111033375A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201880051732.X
申请日：2018-07-30
Applicant: 株式会社拓普康 , 国立研究开发法人理化学研究所
Abstract: 一种太赫兹波产生方法，通过使泵浦光入射能够通过光学参量效应产生太赫兹波的非线性光学晶体，在满足非共线相位匹配条件的方向上产生太赫兹波，以峰值激发功率密度为预定的太赫兹波振荡阈值以上且为预定的激光损伤阈值以下，并且平均激发功率密度为预定的光折变效应产生阈值以下的方式，使具有10ps以上且1ns以下的脉冲宽度并具有1kHz以上的重复频率的泵浦光入射所述非线性光学晶体。
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公开(公告)号：CN111033375B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN201880051732.X
申请日：2018-07-30
Applicant: 株式会社拓普康 , 国立研究开发法人理化学研究所
Abstract: 一种太赫兹波产生方法，通过使泵浦光入射能够通过光学参量效应产生太赫兹波的非线性光学晶体，在满足非共线相位匹配条件的方向上产生太赫兹波，以峰值激发功率密度为预定的太赫兹波振荡阈值以上且为预定的激光损伤阈值以下，并且平均激发功率密度为预定的光折变效应产生阈值以下的方式，使具有10ps以上且1ns以下的脉冲宽度并具有1kHz以上的重复频率的泵浦光入射所述非线性光学晶体。
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