粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置

    公开(公告)号:CN104023791B

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201180074600.7

    申请日:2011-11-03

    CPC classification number: A61N5/1081 A61N5/1077 A61N2005/1087 A61N2005/1095

    Abstract: 本发明的目的在于,即使带电粒子束为低能量,也以较小的射束尺寸对照射对象进行照射。本发明的粒子射线照射装置(58)的特征在于,包括:形成供带电粒子束(1)通过的真空区域的真空管道(6、7);从真空区域释放带电粒子束(1)的真空窗8;在与射束轴垂直的方向上扫描带电粒子束(1)的扫描电磁铁(2、3);具有对带电粒子束视器(5)的监视器装置(67);覆盖真空窗(8)、并在下游侧配置有监视器装置(67)的低散射气体填充室(39);以及对带电粒子束(1)的照射进行控制的照射管理装置(20),低散射气体填充室(39)配置成使得监视器装置(67)与真空窗(8)在射束轴向上的相对位置能变更为规定位置,在照射带电粒子束(1)时,填充有散射比空气小的低散射气体。(1)的通过位置以及射束尺寸进行检测的位置监

    粒子射线照射系统
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103402581B

    公开(公告)日:2016-02-24

    申请号:CN201180068576.6

    申请日:2011-03-02

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能更高速地对照射目标提供更高精度的剂量分布的粒子射线照射系统。本发明的粒子射线照射系统包括:扫描用偏转电磁铁,该扫描用偏转电磁铁使粒子射线发生偏转并对其进行扫描;以及能量宽度扩大设备,该能量宽度扩大设备用于扩大粒子射线的能量宽度,从而在照射目标的深度方向,即粒子射线的照射方向上形成SOBP,能量宽度扩大设备构成为对照射目标的深度方向上的整个照射区域形成深度方向上的SOBP,并对扫描用偏转电磁铁进行控制,以使得粒子射线在照射目标上形成的照射点在照射目标的横向上的整个照射区域呈阶梯状移动。

    粒子射线治疗装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103200993B

    公开(公告)日:2015-10-07

    申请号:CN201180053865.9

    申请日:2011-03-10

    Abstract: 本发明的目的在于得到一种能抑制泄漏剂量的影响的粒子射线治疗装置。包括:照射头(21),该照射头(21)使从加速器(1)射出的粒子射线(B)向规定方向照射;照射控制部(42),该照射控制部(42)对照射头(21)的动作进行控制,以分别对设定在照射对象(TC)内的平面方向(ASS)内的多个束点(SP)依次照射规定剂量的粒子射线(B);以及控制部(4),该控制部(4)对来自加速器(1)的粒子射线(B)的射出进行开启/关闭控制;在从将射出从开启切换为关闭的时刻(TF)起的规定期间(PW)内,或者在粒子射线(B)被遮断之前的期间内,照射控制部(42)利用照射头(21)来使粒子射线(B)向照射对象(TC)内的规定范围(AP)内进行稀释扫描。

    粒子束位置监视装置及粒子射线治疗装置

    公开(公告)号:CN103339529B

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201280002289.X

    申请日:2012-01-20

    Abstract: 本发明的粒子束位置监视装置的目的在于即使是在受到伴随带电粒子束的照射而产生的放射线的影响的情况下,也能缩短带电粒子束的照射位置的取得间隔。粒子束位置监视装置(30)具备:多个位置监视器(4);以及粒子束数据处理装置(11),该粒子束数据处理装置(11)基于从多个位置监视器(4)输出的多个信号对带电粒子束(1)的状态进行运算处理,粒子束数据处理装置(11)具有:多个信道数据转换部(21),该多个信道数据转换部(21)对于从位置监视器(4)输出的多个信号执行AD转换处理;对应于每个位置监视器(4)的位置尺寸处理部(23),该位置尺寸处理部(23)基于进行了AD转换处理后的电压信息对粒子束(1)的粒子束位置进行计算;以及综合控制部(40),该综合控制部(40)在粒子束(1)对照射对象(15)进行照射的期间对多个信道数据转换部(21)进行控制,使得对与多个信号对应的每个位置监视器(4)在错开的定时执行AD转换处理。

    粒子射线照射装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102421481A

    公开(公告)日:2012-04-18

    申请号:CN200980159292.0

    申请日:2009-06-03

    CPC classification number: A61N5/10 A61N5/1043 A61N2005/1087

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种既能抑制带电粒子束的最大可利用射程的减少、又能扩大束点的剂量分布的粒子射线照射装置。粒子射线照射装置包括粒子射线加速单元(1)、粒子射线输送单元(2)、具有带电粒子束扫描电磁铁和扫描电源(11)的扫描装置、及照射控制单元(14),所述扫描装置包括第一扫描单元(3)和第二扫描单元(4),该第一扫描单元(3)将带电粒子束进行扫描来形成伪扩大束点,该第二扫描单元(4)使所述伪扩大束点的位置与所述目标区域一致来进行扫描。

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