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公开(公告)号:CN100580561C
公开(公告)日:2010-01-13
申请号:CN03147049.1
申请日:2003-07-16
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明的防蚀显影组合物含有:含1-10%重量的有机碱的水溶液,1-10%重量的糖化合物和1-10%重量的多元醇。该防蚀显影组合物在防止金属腐蚀和显影性能方面具有优异的特性,并适用于半导体元件和液晶显示器件的生产。
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公开(公告)号:CN1570772A
公开(公告)日:2005-01-26
申请号:CN03147049.1
申请日:2003-07-16
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明的防蚀显影组合物含有:含1-10%重量的有机碱的水溶液,1-10%重量的糖化合物和1-10%重量的多元醇。该防蚀显影组合物在防止金属腐蚀和显影性能方面具有优异的特性,并适用于半导体元件和液晶显示器件的生产。
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