公开(公告)号：CN108369907B

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN201780004391.6

申请日：2017-01-10

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 原木优 ,  岛田宪司

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/00

Abstract: 本发明提供液体组合物和使用其的半导体基板的表面处理方法，所述液体组合物为对半导体基板材料赋予拒醇性的液体组合物，所述液体组合物包含：表面活性剂(A)0.01～15质量％，其具有式(1)：(式中，n为3以上且20以下的整数。)所示的取代基和阴离子性亲水基团；和，化合物(B)0.0001～20质量％，其重均分子量为200以上且500000以下、且每1g具有4mmol以上且30mmol以下的氨基，所述化合物(B)为选自由聚乙烯亚胺、和具有式(2)或(3)：(式中，R1和R2各自独立地为氢或碳数1～6的烷基、烯基、炔基或芳基。)(式中，R3和R4各自独立地为氢或碳数1～6的烷基、烯基、炔基或芳基，X‑为氟化物离子、氯化物离子、溴化物离子、碘化物离子、氟硼酸根离子、磷酸根离子、乙酸根离子、三氟乙酸根离子、硫酸根离子、硫酸氢根离子、甲硫酸根离子、氢氧化物离子、高氯酸根离子或硝酸根离子。)所示的取代基的化合物组成的组。CnF2n+1‑ (1)

公开(公告)号：CN108369907A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201780004391.6

申请日：2017-01-10

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 原木优 ,  岛田宪司

IPC: H01L21/304 ,  C09K3/00

CPC classification number: C09K3/00 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供液体组合物和使用其的半导体基板的表面处理方法，所述液体组合物为对半导体基板材料赋予拒醇性的液体组合物，所述液体组合物包含：表面活性剂(A)0.01～15质量％，其具有式(1)：(式中，n为3以上且20以下的整数。)所示的取代基和阴离子性亲水基团；和，化合物(B)0.0001～20质量％，其重均分子量为200以上且500000以下、且每1g具有4mmol以上且30mmol以下的氨基，所述化合物(B)为选自由聚乙烯亚胺、和具有式(2)或(3)：(式中，R1和R2各自独立地为氢或碳数1～6的烷基、烯基、炔基或芳基。)(式中，R3和R4各自独立地为氢或碳数1～6的烷基、烯基、炔基或芳基，X-为氟化物离子、氯化物离子、溴化物离子、碘化物离子、氟硼酸根离子、磷酸根离子、乙酸根离子、三氟乙酸根离子、硫酸根离子、硫酸氢根离子、甲硫酸根离子、氢氧化物离子、高氯酸根离子或硝酸根离子。)所示的取代基的化合物组成的组。