抗蚀剂用聚合物、抗蚀剂组合物及图案制造方法以及抗蚀剂用聚合物用原料化合物

    公开(公告)号:CN1930194A

    公开(公告)日:2007-03-14

    申请号:CN200580007225.9

    申请日:2005-03-08

    CPC classification number: G03F7/0397 C08F220/18 C08F220/28 C08F222/1006

    Abstract: 本发明提供在用于DUV准分子激光平版印刷等时,线边粗糙度小且缺陷也很少发生的抗蚀剂用聚合物,所述聚合作为构成单元含有酸分解性单元,所述酸分解性单元的结构是由式(1)或(2)来表示。n表示2~24的整数。J为,当n=2时表示单键、二价烃基或具有取代基和/或杂原子的二价烃基,当n≥3时,表示n价烃基或具有取代基和/或杂原子的n价烃基;E表示阻聚剂的、链转移剂的或聚合引发剂的残基。K1和K2表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基、二价噻唑啉环、二价恶唑啉环、二价咪唑啉环中的至少一种,L1和L2表示-C(O)O-、-C(O)-、-OC(O)-中的至少一种,M1、M2、M3表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基中的至少一种,Y、Y1、及Y2表示酸分解性键。k1、k2、11、12、m1、m2及m3为0或1。R1表示氢原子或甲基。

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