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公开(公告)号:CN101290934A
公开(公告)日:2008-10-22
申请号:CN200810092627.9
申请日:2008-04-16
IPC: H01L27/06 , H01L23/485 , H01L23/552
CPC classification number: H01L23/642 , H01L23/3114 , H01L23/481 , H01L23/5223 , H01L24/11 , H01L24/12 , H01L24/25 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L27/14618 , H01L27/14683 , H01L2224/02313 , H01L2224/0401 , H01L2224/0558 , H01L2224/05644 , H01L2224/1132 , H01L2224/131 , H01L2224/18 , H01L2924/00013 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01022 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01047 , H01L2924/01073 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/014 , H01L2924/04941 , H01L2924/04953 , H01L2924/09701 , H01L2924/14 , H01L2924/19041 , H01L2924/19043 , H01L2924/30105 , H01L2924/30107 , H01L2924/3011 , H01L2924/3511 , H01L2924/3512 , H01L2224/13099 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种半导体装置,其在同一半导体装置内具备电容元件,以实现装置整体的小型化,且与现有的半导体装置相比具备大静电电容的电容元件。该半导体装置在半导体基板(2)的表面上形成有半导体集成电路(1)及焊盘电极(4)。在半导体基板(2)的侧面及背面上形成第二绝缘膜(10),在半导体基板(2)的背面与第二绝缘膜(10)之间形成有与半导体基板(2)的背面接触的电容电极(9)。第二绝缘膜(10)由与焊盘电极(4)电连接的配线层(11)覆盖,配线层(11)和电容电极(9)这两者经由第二绝缘膜(10)重叠。因此,由电容电极(9)、第二绝缘膜(10)及配线层(11)形成电容(16)。
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公开(公告)号:CN101290934B
公开(公告)日:2010-06-02
申请号:CN200810092627.9
申请日:2008-04-16
IPC: H01L27/06 , H01L23/485 , H01L23/552
CPC classification number: H01L23/642 , H01L23/3114 , H01L23/481 , H01L23/5223 , H01L24/11 , H01L24/12 , H01L24/25 , H01L24/29 , H01L24/32 , H01L27/14618 , H01L27/14683 , H01L2224/02313 , H01L2224/0401 , H01L2224/0558 , H01L2224/05644 , H01L2224/1132 , H01L2224/131 , H01L2224/18 , H01L2924/00013 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01022 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01047 , H01L2924/01073 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/014 , H01L2924/04941 , H01L2924/04953 , H01L2924/09701 , H01L2924/14 , H01L2924/19041 , H01L2924/19043 , H01L2924/30105 , H01L2924/30107 , H01L2924/3011 , H01L2924/3511 , H01L2924/3512 , H01L2224/13099 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种半导体装置,其在同一半导体装置内具备电容元件,以实现装置整体的小型化,且与现有的半导体装置相比具备大静电电容的电容元件。该半导体装置在半导体基板(2)的表面上形成有半导体集成电路(1)及焊盘电极(4)。在半导体基板(2)的侧面及背面上形成第二绝缘膜(10),在半导体基板(2)的背面与第二绝缘膜(10)之间形成有与半导体基板(2)的背面接触的电容电极(9)。第二绝缘膜(10)由与焊盘电极(4)电连接的配线层(11)覆盖,配线层(11)和电容电极(9)这两者经由第二绝缘膜(10)重叠。因此,由电容电极(9)、第二绝缘膜(10)及配线层(11)形成电容(16)。
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