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公开(公告)号：CN102005311B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201010206809.1
申请日：2010-06-13
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 本发明提供一种包括被覆层覆盖部分的装置的制造方法和被覆层除去装置。分别在第一激光处理部以及第二激光处理部中，根据通过每个电容器元件(2a、2b、2c)的图像处理算出的偏离量和基于之前的电容器元件(2a、2b、2c)的处理的承载条(11)的位置，使承载条(11)上下移动，从而使激光束照射在规定的范围内。在第一激光处理部中，覆盖阳极引线部件的全周的电介质被膜以及导电性高分子膜的部分中、覆盖大约半周的量的部分被除去，在第二激光处理部中，覆盖阳极引线部件的大约半周的剩余的电介质被膜以及导电性高分子膜的部分被除去。
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公开(公告)号：CN102005311A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010206809.1
申请日：2010-06-13
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 本发明提供一种包括被覆层覆盖部分的装置的制造方法和被覆层除去装置。分别在第一激光处理部以及第二激光处理部中，根据通过每个电容器元件(2a、2b、2c)的图像处理算出的偏离量和基于之前的电容器元件(2a、2b、2c)的处理的承载条(11)的位置，使承载条(11)上下移动，从而使激光束照射在规定的范围内。在第一激光处理部中，覆盖阳极引线部件的全周的电介质被膜以及导电性高分子膜的部分中、覆盖大约半周的量的部分被除去，在第二激光处理部中，覆盖阳极引线部件的大约半周的剩余的电介质被膜以及导电性高分子膜的部分被除去。
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