公开(公告)号：CN1322600C

公开(公告)日：2007-06-20

申请号：CN03104119.1

申请日：2003-02-11

Applicant: 三洋电机株式会社

Inventor： 井手大輔 ,  铃木浩司

IPC: H01L51/56 ,  H05B33/12 ,  H05B33/26 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/5231 ,  H01L27/3244 ,  H01L51/5092

Abstract: 光学元件的阴极由基板形成，阳极形成在基板上，发光元件层和用铝制作的阴极，其表面定向基本上均匀。铝的氧含量基本上低于或等于1×1020原子/cm3。

公开(公告)号：CN1444425A

公开(公告)日：2003-09-24

申请号：CN03104119.1

申请日：2003-02-11

Applicant: 三洋电机株式会社

Inventor： 井手大輔 ,  铃木浩司

IPC: H05B33/12 ,  H05B33/26 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/5231 ,  H01L27/3244 ,  H01L51/5092

Abstract: 光学元件的阴极由基板形成，阳极形成在基板上，发光元件层和用铝制作的阴极，其表面定向基本上均匀。铝的氧含量基本上低于或等于1×1020原子/cm3。