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公开(公告)号：CN113862635A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202110737506.0
申请日：2021-06-30
IPC: C23C16/06 , C23C16/02 , C23C16/44 , H01L21/762
Abstract: 根据本发明构思的一些实施例的形成材料层的方法可以包括沉积循环，沉积循环包括：在衬底上提供吸附抑制剂；吹扫过量的吸附抑制剂；在衬底上提供金属前体；吹扫过量的金属前体；以及供应反应剂以在衬底上形成材料层。吸附抑制剂可以包括15族元素或16族元素。
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