公开(公告)号：CN118689047A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202410314636.7

申请日：2024-03-19

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 姜律 ,  权泰熹 ,  金东俊 ,  徐娥滥 ,  郑美莲 ,  崔三宗 ,  权五焕 ,  金珉岐 ,  金宰贤 ,  辛成健 ,  柳承律 ,  李熙敬

IPC: G03F7/42 ,  C11D7/26

Abstract: 提供稀释剂组合物和通过使用所述稀释剂组合物处理基板表面的方法，所述稀释剂组合物可普遍用于极紫外(EUV)光致抗蚀剂以及KrF和ArF光致抗蚀剂并且在减胶涂覆(RRC)和边缘珠状物除去(EBR)方面呈现出改善的性能并且具有优异的管道清洁能力。所述稀释剂组合物包括C2‑C4亚烷基二醇C1‑C4烷基醚乙酸酯、C2‑C3亚烷基二醇C1‑C4烷基醚、和环酮。