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公开(公告)号:CN120018513A
公开(公告)日:2025-05-16
申请号:CN202411453463.3
申请日:2024-10-17
Abstract: 提供了用于利用自旋转移矩的MRAM器件的方法和装置。一种器件包括:衬底;在衬底上方形成的MTJ,MTJ包括参考层、隧道势垒层和自由层;以及在MTJ的自由层上方形成的PSM层。PSM层(即,手性材料层)可以被形成为与MTJ的自由层相邻(或与TBL相邻,TBL与自由层相邻),从而提供自旋转移矩的附加源,并提供可用较低切换电流操作的MTJ器件。
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