光谱系统、光学检查装置和半导体器件制造方法

    公开(公告)号:CN111326434A

    公开(公告)日:2020-06-23

    申请号:CN201910835028.X

    申请日:2019-09-05

    Abstract: 本公开涉及光谱系统、光学检查装置和半导体器件制造方法。该半导体器件制造方法包括对基板执行第一处理工艺;使用光谱系统检查基板,所述光谱系统包括光入射部件、光出射部件、衍射光栅和可控反射镜设备;以及对被执行了所述第一处理工艺的所述基板执行第二处理工艺。执行检查工艺的步骤包括:将入射光分离成各自具有不同波长的多个光线,所述入射光被提供给所述光入射部件并在所述衍射光栅处被衍射;以及移动所述可控反射镜设备以将所述多个光线中具有第一波长的第一光线反射到所述光出射部件。

    喷墨头清洗设备和喷墨头清洗方法

    公开(公告)号:CN102555489A

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:CN201110348625.3

    申请日:2011-11-03

    CPC classification number: B41J2/16585 B41J2/16526 B41J2/16538 B41J2/16552

    Abstract: 本发明公开了一种喷墨头清洗设备和喷墨头清洗方法。根据示例实施例,在吹洗操作之后以非接触的方式从喷墨头去除墨渣的喷墨头清洗设备包括清洗刀和驱动单元。清洗刀与喷墨头底部隔开一定距离。驱动单元构造为在平行于喷墨头底部的方向上以移动清洗刀。清洗刀包括平行于喷墨头底部的平坦的上表面,在清洗刀的平坦的上表面和喷墨头底部之间产生墨膜。清洗刀还包括在清洗刀的上表面中纵向伸长的凹槽。

    墨水释放设备及其控制方法

    公开(公告)号:CN102529374A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201110364872.2

    申请日:2011-11-11

    CPC classification number: B41J2/2114 H04N1/4076

    Abstract: 根据示例实施例,墨水释放设备包括透明喷墨头和彩色喷墨头。透明喷墨头包括构造为释放透明墨水的第一多个喷嘴。彩色喷墨头包括构造为释放彩色墨水的第二多个喷嘴。彩色喷墨头沿与透明喷墨头延伸的方向垂直的方向布置。墨水释放设备还包括构造为测量施加到多个像素的墨水的颜色值的颜色值测量单元。颜色值测量单元基于施加到彩色喷墨头的第二多个喷嘴的信号以及施加到透明喷墨头的第一多个喷嘴的信号测量墨水的颜色值。墨水释放设备还包括控制单元,该控制单元被构造为将所测量的施加到多个像素的墨水的颜色值与目标值进行比较,并被构造为改变施加到透明喷墨头的第一多个喷嘴的信号使得所测量的施加到多个像素的墨水的颜色值一致。

Patent Agency Ranking