公开(公告)号：CN100535744C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200510124272.3

申请日：2005-11-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金钟安 ,  韩知行 ,  郑营培 ,  郑培铉

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L29/786

CPC classification number: H01L27/1288 ,  G03F1/28 ,  G03F1/32 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/14689 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供了一种曝光掩模，该曝光掩模包括：挡光不透明区，阻挡入射光；半透明区；和透明区，使大部分入射光穿过，其中，半透明区产生在大约-70°至大约+70°范围内的相位差。

公开(公告)号：CN1790160A

公开(公告)日：2006-06-21

申请号：CN200510124272.3

申请日：2005-11-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金钟安 ,  韩知行 ,  郑营培 ,  郑培铉

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L29/786

CPC classification number: H01L27/1288 ,  G03F1/28 ,  G03F1/32 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/14689 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供了一种曝光掩模，该曝光掩模包括：挡光不透明区，阻挡入射光；半透明区；和透明区，使大部分入射光穿过，其中，半透明区产生在大约－70°至大约+70°范围内的相位差。