半导体装置
    3.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN114121883A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202110980401.8

    申请日:2021-08-25

    Abstract: 一种半导体装置包括:半导体衬底;集成装置,其位于半导体衬底上;第一重新分布层,其位于半导体衬底上,第一重新分布层具有电连接到集成装置的第一导电图案;第二重新分布层,其位于第一重新分布层上,第二重新分布层具有连接到第一导电图案的第二导电图案;以及第三导电图案,其位于第二重新分布层的顶表面上。第三导电图案包括:焊盘,其连接到第二导电图案;底凸块焊盘,其与焊盘间隔开;分组图案,其位于焊盘与第二重新分布层的外边缘之间;以及布线,其将底凸块焊盘连接到焊盘,并将焊盘连接到分组图案。

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