半导体器件
    1.
    发明公开
    半导体器件 审中-公开

    公开(公告)号:CN118555824A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202311678925.7

    申请日:2023-12-07

    Abstract: 一种半导体器件,包括:衬底,包括单元区;有源图案,在单元区上在第一方向和第二方向上彼此相邻,第一方向和第二方向与衬底的下表面平行并且彼此交叉;屏蔽图案,围绕有源图案的侧表面;第一隔离图案,在有源图案与屏蔽图案之间围绕有源图案;第二隔离图案,在沿第一方向相邻的有源图案之间;以及字线,在第二方向上与有源图案和屏蔽图案交叉。

Patent Agency Ranking