包括分布电流的硅通孔的半导体装置

    公开(公告)号:CN110098163A

    公开(公告)日:2019-08-06

    申请号:CN201811580255.4

    申请日:2018-12-24

    Abstract: 本发明提供了一种包括分布电流的硅通孔的半导体装置,所述半导体装置包括:第一半导体裸片至第M半导体裸片,堆叠在第一方向上。第一半导体裸片至第M半导体裸片中的每个半导体裸片包括:基底;第一硅通孔至第K硅通孔,在第一方向上穿过基底;以及第一电路,通过电连接到第一硅通孔的电源线接收电力。第N半导体裸片的第一硅通孔至第K硅通孔中的每个硅通孔电连接到第N+1半导体裸片的第一硅通孔至第K硅通孔中的在平面图中与其间隔开的硅通孔。

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