公开(公告)号：CN110349985B

公开(公告)日：2025-01-24

申请号：CN201910150495.9

申请日：2019-02-28

Applicant: 三星电子株式会社 ,  韩国科学技术院

Inventor： 赵良镐 ,  郑基勳 ,  南东暻 ,  金基修 ,  张经源

IPC: H10F39/12 ,  H04N25/76

Abstract: 提供一种图像传感器和制造图像传感器的方法。图像传感器包括：阻挡层，包括吸收层和透明层；透镜元件位于阻挡层的下面；感测元件被布置为面向透镜元件。

公开(公告)号：CN110349985A

公开(公告)日：2019-10-18

申请号：CN201910150495.9

申请日：2019-02-28

Applicant: 三星电子株式会社 ,  韩国科学技术院

Inventor： 赵良镐 ,  郑基勳 ,  南东暻 ,  金基修 ,  张经源

IPC: H01L27/146 ,  H04N5/374

Abstract: 提供一种图像传感器和制造图像传感器的方法。图像传感器包括：阻挡层，包括吸收层和透明层；透镜元件位于阻挡层的下面；感测元件被布置为面向透镜元件。

公开(公告)号：CN101179011A

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200710186032.5

申请日：2007-11-09

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑基勳 ,  梁容豪

IPC: H01L21/00 ,  H01L27/12 ,  H01L23/544 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1362

CPC classification number: G02F1/1333 ,  G02F2001/133374 ,  G02F2001/133388 ,  G06Q50/04 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/54433 ,  H01L2223/54473 ,  H01L2924/0002 ,  Y02P90/30 ,  H01L2924/00

Abstract: 一种单元标识形成方法，包括：在基板上形成金属层；在金属层上涂覆光致抗蚀材料，以形成光致抗蚀膜；通过包括与单元标识图案相对应的阻光图案的掩模来对光致抗蚀膜进行曝光；对曝光的光致抗蚀膜进行显影；使用显影的光致抗蚀膜来蚀刻金属层，以形成包括单元标识图案的金属图案；以及将激光束照射到单元标识图案的符号上。