Patent search ap:("三星电子株式会社") AND inv:"贝拉姆·耶尼卡亚" Page 1

1.

发明公开
光学邻近校正方法和掩模制造方法审中-公开

公开(公告)号：CN118519314A

公开(公告)日：2024-08-20

申请号：CN202311841570.9

申请日：2023-12-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李熙俊 , 曹宇镛 , 贝拉姆·耶尼卡亚 , 金周炳 , 金禹成

IPC: G03F1/36 , G03F7/20 , G06T7/13

Abstract: 提供了能够解决图案化的限制并改善图案化的可靠性的光学邻近校正(OPC)方法以及使用该OPC方法的掩模制造方法。在该OPC方法中，创建用于目标图案的矩形掩模布局，将矩形掩模布局的边缘分割成多个分段，创建第一形状可变点，以及通过将第一形状可变点移动到圆化目标图案上来创建第二形状可变点。此后，基于第二形状可变点来创建曲线掩模布局，基于曲线掩模布局提取轮廓，确定边缘放置误差(EPE)，以及根据预定标准重复所述操作，从而实现具有最小EPE的掩模布局。

Patent Agency Ranking