光刻装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1637613A

    公开(公告)日:2005-07-13

    申请号:CN200410095448.2

    申请日:2004-10-27

    CPC classification number: G03F7/70991 Y10S414/14

    Abstract: 提供一种光刻装置,包括:在基板上涂覆抗蚀剂的涂胶机;存放从涂胶机提供的基板的第一缓冲器;对从第一缓冲器提供的基板进行烘焙的烘焙器;转动从烘焙器提供的基板的第一转台;使基板与涂胶机、第一缓冲器、烘焙器以及第一转台相互通信的第一传送器;对从第一转台提供的基板进行曝光的曝光机;对从曝光机提供的基板上的抗蚀剂进行显影的显影机;以及使得基板与第一转台、曝光机以及显影机相互通信的第二传送器。

    电子装置及其功能执行方法

    公开(公告)号:CN101281397A

    公开(公告)日:2008-10-08

    申请号:CN200810091165.9

    申请日:2008-04-07

    Inventor: 吴珉儿 申善秀

    CPC classification number: H01R29/00 G11B19/02

    Abstract: 一种利用外部装置执行功能的装置和方法,该功能执行方法包括步骤:当外部装置在第一位置连接至连接单元时,执行第一功能,并且,当外部装置在第二位置连接至连接单元时,执行不同于第一功能的第二功能。

    光刻装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100465788C

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:CN200410095448.2

    申请日:2004-10-27

    CPC classification number: G03F7/70991 Y10S414/14

    Abstract: 提供一种光刻装置,包括:在基板上涂覆抗蚀剂的涂胶机;存放从涂胶机提供的基板的第一缓冲器;对从第一缓冲器提供的基板进行烘焙的烘焙器;转动从烘焙器提供的基板的第一转台;使基板与涂胶机、第一缓冲器、烘焙器以及第一转台相互通信的第一传送器;对从第一转台提供的基板进行曝光的曝光机;对从曝光机提供的基板上的抗蚀剂进行显影的显影机;以及使得基板与第一转台、曝光机以及显影机相互通信的第二传送器。

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