校正设计布局的方法、计算装置及制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN118194804A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202310908116.4

    申请日:2023-07-24

    Abstract: 提供了校正设计布局方法、计算装置及制造半导体器件的方法。所述计算装置从原始设计布局中分离出包括多个目标图案的第一目标层;基于所述第一目标层中的所述多个目标图案的位置处的错位值将所述多个目标图案移位,以生成第二目标层;以及将所述第二目标层与从中分离出所述第一目标层的所述原始设计布局组合,以生成校正后的设计布局。

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