公开(公告)号：CN110908237A

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CN201910857744.8

申请日：2019-09-11

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 河淳穆 ,  金载熙 ,  李庸旭 ,  金容佑

IPC: G03F1/38

Abstract: 提供了一种用于负显影的光掩模。所述光掩模包括：主区域；以及划道区域，围绕主区域并包括第一道和第二道。第一道和第二道相对于主区域设置在彼此的第一相对侧处。第一道包括在第一方向上延伸的第一子道和在第一方向上延伸的第二子道。第一子道包括第一虚设图案，第二子道包括第二虚设图案。第一虚设图案和第二虚设图案被构造为将超过光阈值剂量的光辐射到负性光致抗蚀剂的设置在光掩模的第一道下方的第一部分。

公开(公告)号：CN110908237B

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN201910857744.8

申请日：2019-09-11

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 河淳穆 ,  金载熙 ,  李庸旭 ,  金容佑

IPC: G03F1/38

Abstract: 提供了一种用于负显影的光掩模。所述光掩模包括：主区域；以及划道区域，围绕主区域并包括第一道和第二道。第一道和第二道相对于主区域设置在彼此的第一相对侧处。第一道包括在第一方向上延伸的第一子道和在第一方向上延伸的第二子道。第一子道包括第一虚设图案，第二子道包括第二虚设图案。第一虚设图案和第二虚设图案被构造为将超过光阈值剂量的光辐射到负性光致抗蚀剂的设置在光掩模的第一道下方的第一部分。