-
公开(公告)号:CN100442539C
公开(公告)日:2008-12-10
申请号:CN02828517.4
申请日:2002-07-24
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L29/786
CPC classification number: H01L21/28008 , G03F7/0047 , H01L21/288 , H01L21/32051 , H01L27/12 , H01L27/124 , H01L29/66765 , H01L29/78669 , H01L51/0003 , H01L51/0015 , H01L51/0021 , H01L51/0545
Abstract: 本发明涉及一种金属图案的形成方法及利用该金属图案形成方法的薄膜晶体管阵列面板制造方法,通过涂布含金属的有机金属络合物形成有机金属层。通过光掩模将该有机金属层曝光,并且显像以形成金属图案。
-
公开(公告)号:CN1623236A
公开(公告)日:2005-06-01
申请号:CN02828517.4
申请日:2002-07-24
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L29/786
CPC classification number: H01L21/28008 , G03F7/0047 , H01L21/288 , H01L21/32051 , H01L27/12 , H01L27/124 , H01L29/66765 , H01L29/78669 , H01L51/0003 , H01L51/0015 , H01L51/0021 , H01L51/0545
Abstract: 本发明涉及一种金属图案的形成方法及利用该金属图案形成方法的薄膜晶体管阵列面板制造方法,通过涂布含金属的有机金属络合物形成有机金属层。通过光掩模将该有机金属层曝光,并且显像以形成金属图案。
-