Patent search ap:("三星电子株式会社") AND inv:"曹永贤" Page 1

1.

发明公开
等离子体边缘环和包括其的等离子体蚀刻装置审中-实审

公开(公告)号：CN116110769A

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN202211324391.3

申请日：2022-10-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李炫周 , 南象基 , 曹永贤

IPC: H01J37/32 , H01L21/67

Abstract: 公开了等离子体边缘环和包括其的等离子体蚀刻装置。等离子体蚀刻装置包括等离子体电极、在等离子体电极上的等离子体边缘环、以及在等离子体电极上在蚀刻对象外侧的引导电极。等离子体边缘环提供垂直穿透等离子体边缘环的中心的放置孔、以及在限定放置孔的内侧表面的一部分上的凹陷。凹陷从内侧表面向外凹入。

Patent Agency Ranking