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公开(公告)号：CN111276382A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201910864306.4
申请日：2019-09-12
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 路四清 , 李天揆 , 恭史野口
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种等离子体处理设备包括：处理腔室；衬底支撑卡盘，其被构造为支撑所述处理腔室中的衬底，该衬底支撑卡盘包括彼此对称地分离的上冷却通道和下冷却通道；和支撑卡盘温度控制器，其被配置为向上冷却通道供应第一冷却剂并向下冷却通道供应第二冷却剂。
