公开(公告)号：CN102104049A

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN201010570119.4

申请日：2010-12-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 宋溱镐 ,  崔新逸 ,  洪瑄英 ,  金时烈 ,  李基晔 ,  尹在亨 ,  金成烈 ,  徐五成 ,  裴良浩 ,  郑钟铉 ,  杨东周 ,  金俸均 ,  吴和烈 ,  洪泌荀 ,  金柄范 ,  朴帝亨 ,  丁有光 ,  金钟仁 ,  徐南锡

IPC: H01L27/12 ,  H01L29/786 ,  H01L29/49 ,  H01L23/52 ,  H01L21/77

CPC classification number: H01L27/124 ,  H01L27/12 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/42368 ,  H01L29/458 ,  H01L29/78669

Abstract: 本发明提供一种薄膜晶体管阵列面板及其制造方法。薄膜晶体管阵列面板包括：栅极线；栅极绝缘层，覆盖栅极线；半导体层，设置在栅极绝缘层上；数据线和漏极，设置在半导体层上；钝化层，覆盖数据线和漏极，并具有暴露漏极的一部分的接触孔；像素电极，通过接触孔电连接到漏极。数据线和漏极均具有包括钛的下层和铜的上层的双层，下层比上层宽，且下层具有暴露的区域。栅极绝缘层可具有台阶形状。

公开(公告)号：CN102486917A

公开(公告)日：2012-06-06

申请号：CN201110385428.9

申请日：2011-11-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 裵良浩 ,  徐五成 ,  朴帝亨 ,  金湘甲

IPC: G09G3/36 ,  G02F1/136 ,  G02F1/1368 ,  G02F1/1343

CPC classification number: G02F1/13439 ,  G02F1/136286 ,  G02F2001/13629 ,  G02F2001/136295

Abstract: 本发明公开显示装置及其制造方法。显示装置包括：第一绝缘基板；第二绝缘基板，面对第一绝缘基板；多个像素，设置在第一绝缘基板上，均包括：栅电极，设置于第一绝缘基板上；栅极绝缘层，设于第一绝缘基板上以覆盖栅电极；半导体图案，设置于栅极绝缘层上以与栅电极重叠；源电极，设于半导体图案上；漏电极，设于半导体图案上以与源电极隔开；透明像素电极，包括第一像素电极和第二像素电极，第一像素电极设于栅极绝缘层上并且部分地与漏电极接触，第二像素电极覆盖第一像素电极；公共电极，设置于第一绝缘基板或第二绝缘基板上以与像素电极一起形成电场，第一像素电极包括至少包含铟的导电金属氧化物层，第二像素电极包括不包含铟的导电金属氧化物层。

公开(公告)号：CN102479702A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：CN201110214106.8

申请日：2011-07-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑钟铉 ,  裵良浩 ,  宋溱镐 ,  徐五成 ,  洪瑄英 ,  吴和烈 ,  金俸均 ,  徐南锡 ,  杨东周 ,  李旺宇

IPC: H01L21/3213 ,  H01L21/28 ,  H01L21/77

CPC classification number: H01L21/32134 ,  G02F1/136227 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/41733

Abstract: 一种薄膜晶体管阵列面板制造方法，包括：在栅绝缘层和栅极线上顺序形成第一硅层、第二硅层、下金属层和上金属层；在上金属层上形成第一膜图案；通过蚀刻上金属层和下金属层，形成第一下金属图案和包括突出部的第一上金属图案；通过蚀刻第一硅层和第二硅层，形成第一硅图案和第二硅图案；通过灰化第一膜图案形成第二膜图案；通过蚀刻第一上金属图案形成第二上金属图案；通过蚀刻第一下金属图案以及第一和第二硅图案，形成数据线和薄膜晶体管；以及在所得结构上形成钝化层和像素电极。