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公开(公告)号：CN1525519A
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：CN200410005986.8
申请日：2004-01-15
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 瑟吉·Y·纳瓦拉 , 尤里·N·托尔马彻夫 , 马东俊 , 金泰完
CPC classification number: C23C14/35 , H01J37/3408
Abstract: 本发明提供一种磁控管阴极和包括这种磁控管阴极的溅射装置。磁控管阴极包括三个或更多个磁铁单元，各磁铁单元包括单个磁铁或多个磁铁，这些磁铁的同一磁极朝向同一方向，其中一个磁铁单元围绕另一磁铁单元的外围设置，相邻的磁铁单元的相反磁极朝向同一方向。获得了均匀的磁场分布。因此，靶的腐蚀轮廓宽并且均匀。
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