公开(公告)号：CN111987016B

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202010447216.8

申请日：2020-05-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金炳勋 ,  孔炳焕 ,  裴承龙 ,  安在铉

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 一种衬底处理设备，包括：工艺腔室；支撑部，其设置在工艺腔室中，具有其中安置有衬底的衬底装载区；加热部，其设置在与衬底装载区相对的位置中以加热衬底装载区；以及反射构件，其设置在工艺腔室中的与衬底装载区相对的位置中，密封中空部设置在所述反射构件中。

公开(公告)号：CN111987016A

公开(公告)日：2020-11-24

申请号：CN202010447216.8

申请日：2020-05-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金炳勋 ,  孔炳焕 ,  裴承龙 ,  安在铉

IPC: H01L21/67 ,  H01J37/32

Abstract: 一种衬底处理设备，包括：工艺腔室；支撑部，其设置在工艺腔室中，具有其中安置有衬底的衬底装载区；加热部，其设置在与衬底装载区相对的位置中以加热衬底装载区；以及反射构件，其设置在工艺腔室中的与衬底装载区相对的位置中，密封中空部设置在所述反射构件中。