公开(公告)号：CN109309021B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201810843480.6

申请日：2018-07-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 安正浩 ,  吴在晚 ,  李成实 ,  梁裕信 ,  任东哲 ,  赵炯奭

IPC: H01L21/66

Abstract: 本公开提供了检查基板的系统和方法及使用其制造半导体器件的方法。一种基板检查系统包括：基板支撑件；光学器件，配置为照射基板上的图案化结构以及从由图案化结构反射的光捕获图案化结构的图像；焦点调整装置，操作为调整入射光在图案化结构上的焦点位置；图像处理器，配置为计算焦点偏移的最佳值，以确定用于图案化结构中的缺陷检测的光的焦点。图案化结构可以包括具有开口的第一图案以及具有相对于基板位于不同高度处的顶表面的第二图案。焦点偏移值采用在改变入射光的焦点位置的同时获得的第二图案的顶表面的图像来确定。

公开(公告)号：CN109309021A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201810843480.6

申请日：2018-07-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 安正浩 ,  吴在晚 ,  李成实 ,  梁裕信 ,  任东哲 ,  赵炯奭

IPC: H01L21/66

Abstract: 本公开提供了检查基板的系统和方法及使用其制造半导体器件的方法。一种基板检查系统包括：基板支撑件；光学器件，配置为照射基板上的图案化结构以及从由图案化结构反射的光捕获图案化结构的图像；焦点调整装置，操作为调整入射光在图案化结构上的焦点位置；图像处理器，配置为计算焦点偏移的最佳值，以确定用于图案化结构中的缺陷检测的光的焦点。图案化结构可以包括具有开口的第一图案以及具有相对于基板位于不同高度处的顶表面的第二图案。焦点偏移值采用在改变入射光的焦点位置的同时获得的第二图案的顶表面的图像来确定。