用于基板的蚀刻设备
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101086957B

    公开(公告)日:2010-10-20

    申请号:CN200710108881.9

    申请日:2007-06-05

    CPC classification number: H01L21/67086 Y10S134/902

    Abstract: 本发明提供一种用于基板的蚀刻设备,包括:包括蚀刻溶液的蚀刻箱;盒,具有安置于其中的多个基板且该盒安装在该蚀刻箱内;多孔板,安装在该盒的下表面上;多个排出部件,设置在所述多孔板中并对应于所述基板,每个所述排出部件具有多个排出口。该蚀刻设备还包括多条第一管线,分别连接到所述排出口,并被供给以气体从而通过排出口向基板提供气泡。所述第一管线分成多个组,至少一个组被供给有压力不同于供给到其它组的气体压力的气体。

    用于基板的蚀刻设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101086957A

    公开(公告)日:2007-12-12

    申请号:CN200710108881.9

    申请日:2007-06-05

    CPC classification number: H01L21/67086 Y10S134/902

    Abstract: 本发明提供一种用于基板的蚀刻设备,包括:蚀刻溶液的蚀刻箱;盒,具有安置于其中的多个基板且该盒安装在该蚀刻箱内;多孔板,安装在该盒的下表面上;多个排出部件,设置在所述多孔板中并对应于所述基板,每个所述排出部件具有多个排出口。该蚀刻设备还包括多条第一管线,分别连接到所述排出口,并被供给以气体从而通过排出口向基板提供气泡。所述第一管线分成多个组,至少一个组被供给有压力不同于供给到其它组的气体压力的气体。

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