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公开(公告)号:CN101086957A
公开(公告)日:2007-12-12
申请号:CN200710108881.9
申请日:2007-06-05
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/306 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67086 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供一种用于基板的蚀刻设备,包括:蚀刻溶液的蚀刻箱;盒,具有安置于其中的多个基板且该盒安装在该蚀刻箱内;多孔板,安装在该盒的下表面上;多个排出部件,设置在所述多孔板中并对应于所述基板,每个所述排出部件具有多个排出口。该蚀刻设备还包括多条第一管线,分别连接到所述排出口,并被供给以气体从而通过排出口向基板提供气泡。所述第一管线分成多个组,至少一个组被供给有压力不同于供给到其它组的气体压力的气体。
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公开(公告)号:CN101086957B
公开(公告)日:2010-10-20
申请号:CN200710108881.9
申请日:2007-06-05
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/306 , H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67086 , Y10S134/902
Abstract: 本发明提供一种用于基板的蚀刻设备,包括:包括蚀刻溶液的蚀刻箱;盒,具有安置于其中的多个基板且该盒安装在该蚀刻箱内;多孔板,安装在该盒的下表面上;多个排出部件,设置在所述多孔板中并对应于所述基板,每个所述排出部件具有多个排出口。该蚀刻设备还包括多条第一管线,分别连接到所述排出口,并被供给以气体从而通过排出口向基板提供气泡。所述第一管线分成多个组,至少一个组被供给有压力不同于供给到其它组的气体压力的气体。
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