沉积设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104109845A

    公开(公告)日:2014-10-22

    申请号:CN201410150441.X

    申请日:2014-04-15

    Inventor: 程相慜 黄正宇

    CPC classification number: B05D1/32 B05D1/60 C23C14/042 C23C14/50

    Abstract: 本发明公开了一种沉积设备,该沉积设备包括:沉积室;沉积源,在沉积室中;膜固定部,被构造为固定膜,膜设置有沉积材料沉积到的沉积表面;以及保护板,在沉积室中,以防止沉积材料沉积到沉积室中的侧壁和上壁,从而控制沉积材料仅沉积到有效膜形成区域。尺寸与沉积表面的有效膜形成区域对应的第一开口以及形成在有效膜形成区域的外部区域中的至少一个第二开口形成在保护板上,并且当沉积材料通过沉积源沉积到沉积表面时,通过第二开口的沉积材料在沉积表面上形成对准标记。

Patent Agency Ranking