显示设备
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110346968B

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN201910265817.4

    申请日:2019-04-03

    Abstract: 公开了显示设备。显示设备包括显示面板、导光板、第一光源单元和光学构件。导光板位于显示面板上。第一光源单元配置成将光提供至导光板的侧表面。光学构件位于导光板与显示面板之间。光学构件包括互连层、光学图案单元和第一图案成形布线,其中,光学图案单元包括位于互连层的表面上的第一光学图案,且第一图案成形布线配置成从互连层接收控制电压并经由控制电压来控制第一光学图案中的每个的形状。第一光学图案中的每个连接至第一图案成形布线中的相应的一些。

    显示装置及其制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117596924A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202310957618.6

    申请日:2023-08-01

    Abstract: 本申请涉及显示装置和显示装置的制造方法。显示装置包括:显示面板,包括具有显示区域和非显示区域的衬底以及在衬底上在显示区域中的多个像素;覆盖面板,直接在衬底的后表面上并且包括暴露衬底的至少一个区域的开口;传感器,设置在覆盖面板的开口内;电路板,联接到衬底的上表面的一个侧边并且电连接到像素;以及接纳构件,配置成接纳显示面板、覆盖面板和电路板,其中,覆盖面板包括光固化树脂或热固化树脂。

    显示装置和制造显示装置的方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117177630A

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202310633391.X

    申请日:2023-05-31

    Abstract: 本公开涉及一种显示装置和一种制造显示装置的方法。所述显示装置包括:显示面板;保护膜,设置在所述显示面板下面;反射层,设置在所述保护膜下面并且包括金属材料;以及保护层,设置在所述反射层下面并且以单层提供。所述保护层包括:基体部分;光吸收剂;和聚合物珠。所述光吸收剂包括黑色颜料或黑色染料并且分散在所述基体部分中。所述显示装置具有改善的抗冲击性、可视性和可靠性。

    散热复合件和包括其的显示设备
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113972338A

    公开(公告)日:2022-01-25

    申请号:CN202110789563.3

    申请日:2021-07-13

    Abstract: 本申请涉及用于显示设备的散热复合件和显示设备。用于显示设备的散热复合件包括:吸热器;电生成器,设置在吸热器上,以将来自吸热器的热量转化为电力;以及振动器,设置在电生成器上,以将从电生成器提供的电力转换为振动。

    显示装置和显示装置的制造方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111739907A

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN202010195079.3

    申请日:2020-03-19

    Abstract: 提供了一种显示装置和显示装置的制造方法。所述制造方法包括:在第一基底之上堆叠剥离层;在剥离层之上形成导体图案;在导体图案之上形成牺牲层;在牺牲层之上形成包括聚合物层的第二基底;在第二基底之上形成包括导体的电子元件;在牺牲层中形成与导体图案对应的图案;将导体图案从剥离层转印到第二基底的表面;以及去除第一基底、剥离层和牺牲层。

    显示设备
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110346968A

    公开(公告)日:2019-10-18

    申请号:CN201910265817.4

    申请日:2019-04-03

    Abstract: 公开了显示设备。显示设备包括显示面板、导光板、第一光源单元和光学构件。导光板位于显示面板上。第一光源单元配置成将光提供至导光板的侧表面。光学构件位于导光板与显示面板之间。光学构件包括互连层、光学图案单元和第一图案成形布线,其中,光学图案单元包括位于互连层的表面上的第一光学图案,且第一图案成形布线配置成从互连层接收控制电压并经由控制电压来控制第一光学图案中的每个的形状。第一光学图案中的每个连接至第一图案成形布线中的相应的一些。

    导电图案形成方法
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113078106B

    公开(公告)日:2025-04-01

    申请号:CN202011460844.6

    申请日:2020-12-11

    Abstract: 本申请公开了导电图案形成方法。根据实施方式的导电图案形成方法包括:在基板上形成第一导电图案;在包括掩模的转印基板上依次形成脱模层和导电层;向其中形成第一导电图案的基板辐射强脉冲光(IPL);将转印基板放置在基板上;通过向转印基板辐射IPL,将对应于掩模的开口的导电层的一部分转印至基板上,以在基板上形成第二导电图案。

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