表面光源装置和具有该装置的背光单元

    公开(公告)号:CN101083858A

    公开(公告)日:2007-12-05

    申请号:CN200710107371.X

    申请日:2007-05-29

    CPC classification number: H01J61/305

    Abstract: 本发明提供一种表面光源装置,其包括多个放电通道,其中最外边放电通道的每一端均朝向密封部分胀大。所述多个放电通道中的至少一个放电通道的顶表面可包括曲面部分和平面部分。所述放电通道的两端可形成为高于其中间部分,并且所述放电通道可以形成为不同的高度。相应地,通过在表面光源装置中形成放电空间的放电通道形状的各种不同改变,可改进放电特性并解决亮度均匀性较差的问题。进一步,本发明可解决诸如低温下无法发光、相邻通道之间出现沟道效应这样的问题,并且可保持模制产品的质量。

    在玻璃衬底上淀积薄膜的设备和方法

    公开(公告)号:CN1274874C

    公开(公告)日:2006-09-13

    申请号:CN02142566.3

    申请日:2002-08-14

    Inventor: 宋希洙 朴性玩

    CPC classification number: C23C14/568 C23C14/541 H01L21/67173 H01L21/6776

    Abstract: 本发明公开了一种在衬底上淀积薄膜的连续式溅射设备,包含:一个缓冲加热模块,其中的内部气压减小到真空状态,并且衬底被预热;一个入口传送模块,与缓冲加热模块相邻,并且具有一个在内部移动衬底的快速传送装置,在这个模块内,衬底被加热;一个第一溅射模块,用来在衬底上淀积薄膜,它与入口传送模块相邻;由此,入口传送模块充当缓冲区域,减小当衬底从缓冲加热模块中卸载出来的时候第一溅射模块中温度和气压的起伏;其中,入口传送模块中的衬底被该快速传送装置以比第一溅射模块中快的速度移动。本发明也公开了一种利用上述连续式溅射设备在衬底上淀积薄膜的方法。

    在玻璃衬底上淀积薄膜的设备和方法

    公开(公告)号:CN1407129A

    公开(公告)日:2003-04-02

    申请号:CN02142566.3

    申请日:2002-08-14

    Inventor: 宋希洙 朴性玩

    CPC classification number: C23C14/568 C23C14/541 H01L21/67173 H01L21/6776

    Abstract: 用来在衬底上淀积薄膜的内嵌式溅射系统包括缓冲加热模块,与缓冲加热模块相邻并且具有快速传送设备用来移动衬底的入口传送模块,和用来在衬底上淀积薄膜的第一溅射模块,第一溅射模块与入口传送模块相邻。入口传送模块充当缓冲区域,在衬底从缓冲加热模块中卸载出来时,可以减小在第一溅射模块中的温度和气压的波动。入口传送模块中的衬底被快速传送设备以比在第一溅射模块中快的速度移动。

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