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公开(公告)号：CN101360844A
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200680051021.X
申请日：2006-10-18
Applicant: 三井金属矿业株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3407
Abstract: 本发明的目的在于，提供能够更有效地减少电弧放电发生的溅射靶、适用于所述溅射靶的溅射靶材及其制造方法。溅射靶材是在油分存在的情况下进行了切削加工的溅射靶材，其特征在于，附着在溅射前的该靶材表面上的油膜厚度为1.5nm以下。溅射靶的特征在于，包括所述溅射靶材和背衬板。溅射靶材的制造方法以及溅射靶的制造方法的特征在于，具有使蒸汽接触靶材的表面，从而清洗该靶材表面的清洗工序。
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