剥离膜
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100379553C

    公开(公告)日:2008-04-09

    申请号:CN03812409.2

    申请日:2003-05-23

    Inventor: 西山公典

    CPC classification number: B32B27/36 B32B27/20

    Abstract: 本发明提供在表面有适度凹凸的聚酯基膜上具有硅氧烷剥离层、或者在表面平坦的聚酯基膜上具有有适度凹凸的硅氧烷剥离层的剥离膜。该剥离膜是具有不将剥离膜表面的凹凸转印在成形片材上的优异的表面特性、同时加工性能优异、剥离特性也良好的剥离膜。

    热塑性高分子用紫外线吸收剂组合物的制造方法

    公开(公告)号:CN1286892C

    公开(公告)日:2006-11-29

    申请号:CN200510075885.2

    申请日:2002-11-20

    Abstract: 提供热塑性高分子用紫外线吸收剂组合物的制造方法,该方法经过如下工序:a工序,使含有在溶剂和碱存在下N-羧氨基苯甲酸酐和对苯二酰氯发生亚氨酸酯化反应生成的下式表示的环状亚氨酸酯化合物的固形分被分离的工序;b工序,用碱性溶液处理在a工序中分离的固形分,再进行水洗处理,得到由含有99.5重量%以上不到100重量%的下式表示的环状亚氨酸酯化合物、还含有酸性物质和氯离子形成性化合物中的至少一种,并且要调制成满足酸值为1×10-3~1、氯离子浓度为1×10-1~1×103ppm中的至少一个条件的调制物构成的热塑性高分子用紫外线吸收剂组合物的工序。

Patent Agency Ranking