一种基于转印工艺的金属微纳结构制备方法及装置

    公开(公告)号:CN118811769A

    公开(公告)日:2024-10-22

    申请号:CN202410950433.7

    申请日:2024-07-16

    Abstract: 本发明涉及金属微纳结构制备技术领域,尤其是一种基于转印工艺的金属微纳结构制备方法及装置,其一种基于转印工艺的金属微纳结构制备方法包括以下步骤S1、制备转印载体,转印载体分为载体层、脱模层、转印层;S1.1、在载体层表面制备具有特定形状的图案化微纳凸结构;S1.2、在图案化微纳凸结构表面沉积一层低熔点材料作为脱模层;S1.3、在低熔点材料表面制备金属薄膜作为转印层;S2、将转印载体完全贴附在承印基板上并施加一定压力,同时加热使脱模层融化,载体层与转印层脱离,完成金属微纳结构制备。通过转印实现金属微纳结构在多种衬底上的制备,能够大规模精确转印微纳米结构,通过转印可以在多种衬底特别是柔性衬底上形成微纳金属结构。

    一种多通道隔离安全防护方法及系统

    公开(公告)号:CN115766189B

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202211408335.8

    申请日:2022-11-10

    Abstract: 本发明公开了一种多通道隔离安全防护方法及系统包括:对电力信息网络,进行内网和外网的区分,对所述内网和所述外网进行划分,得到相应的内网节点集合以及边缘节点集合,获取内网中各节点的目标节点属性信息,根据所述节点属性信息进行内网安全稳定分析,并根据所得的分析结果,在不满足稳定运行条件的目标内网节点处进行逻辑隔离,在边缘节点处进行物理隔离;本发明提供的多通道隔离安全防护方法及系统使用拓扑结构区分内网外网数据来源,利用逻辑隔离和物理隔离两种方法实现多层防御,在面临多重攻击的情况,依旧保持较高的安全性,在网络安全防护方面取得更加良好的效果。

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