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公开(公告)号：CN108628242A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201810325032.7
申请日：2018-04-12
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
IPC: G05B19/05
Abstract: 本发明公开了一种基于PLC控制平台的机床设备加解密与授权方法，包括以下步骤：1.在机床的PLC控制程序中加入加密算法程序模块，在所述加密算法程序模块激活后自动产生一个所述机床的唯一的ID号；2.厂家使用一基于PC运行的解密软件，启动所述解密软件后通过输入所述机床的ID号并设定授权到期时间，自动生成解密注册码；3.在所述机床锁定不能正常使用的情况下，将所述解密软件生成的注册码输入所述ID号对应机床的PLC，由所述加密算法程序模块对输入的所述注册码进行解析判断是否正确，若正确即可解锁并授权所述机床正常使用到设定的时间，若不正确机床继续锁定。本发明具有简单、安全、方便、成本低的优点。
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公开(公告)号：CN106956205A
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201710335910.9
申请日：2017-05-12
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
CPC classification number: B24B29/02 , B24B27/0076 , B24B41/02 , B24B41/06 , B24B47/04 , B24B47/12 , B24B47/20
Abstract: 本发明公开了一种上下错位多面多轨迹、抛光组合机床，包括机架、设在所述机架中间的工件夹紧回转系统、位于所述工件夹紧回转系统两侧的两组抛光头装置；所述工件夹紧回转系统包括同步转动的上、下夹紧轴，工件抛光过程中，所述两组抛光头装置中两个抛光头机构主动跟随工件旋转，相互之间完全独立、单独控制，同时两个抛光头机构上下错位移动实现多轨迹抛光。本发明抛光过程中抛光压力即时变化，两个抛光头机构可以同步上下移动，也可错位上下移动，相比传统的从动仿形恒压力抛光方式，更能保证工件轮廓表面上每一点抛光的均匀度，抛光后的工件尺寸精度更高，表面纹路更好。本发明可以大幅度提高设备加工时的良率和效率。
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公开(公告)号：CN104526585A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201510006338.2
申请日：2015-01-07
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于磨削气门的砂轮及磨削气门的方法，砂轮具有与气门沿轴向外轮廓相适应的外轮廓线，所述砂轮的外轮廓线由与气门盘外圆轮廓对应的第一线段、与气门盘外锥面轮廓对应的第二线段、与气门盘内锥面轮廓对应的第三线段、与气门颈部圆弧轮廓对应的圆弧线段和与气门颈部轮廓对应的第四线段连接组成，所述砂轮外轮廓线中圆弧线段的半径小于气门颈部圆弧轮廓的半径，所述砂轮外轮廓线中第二线段的长度大于气门盘外锥面轮廓的长度。采用所述砂轮磨削气门，可以实现通过一次装夹磨削即可完成气门的磨削加工，从而提高气门加工效率和质量。
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公开(公告)号：CN103552955A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201310507882.6
申请日：2013-10-25
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
IPC: B66F11/00
Abstract: 本发明公开了一种伺服控制驱动的升降回转复合运动机构，包括一中心设开孔的台面板，在所述台面板的下面设有支撑架，在所述支撑架上设有由伺服电机驱动的升降装置，所述升降装置上设有与所述台面板的开孔对应的直驱马达，所述直驱马达的转轴上设有支撑部件。本发明由于采用伺服电机和直驱马达作为动力，大大简化了现有技术复杂的机械传动结构，其运转定位精度高，稳定性、可靠性强，同时大幅度减少了润滑油的使用，最大限度避免了使用润滑油产生的污染，可以较好地满足对油污染要求严格的制药机械、包装机械、电子机械等行业的要求。
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公开(公告)号：CN103481174A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310394162.3
申请日：2013-09-03
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
IPC: B24B29/02
CPC classification number: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种多边形或曲面工件的抛光方法，其特征是利用计算机的数控程序通过采集工件旋转伺服电机的负载信号，分别控制工件转速ω工件和抛光轮对工件的抛光压力F。本发明方法是一种连续柔性随形恒压力变速控制方法，适合多边形或曲面工件的抛光，可使玻璃抛光均匀，不会出现纹路，提高抛光精度和抛光效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103465157A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310393891.7
申请日：2013-09-03
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
IPC: B24B37/34
Abstract: 本发明公开了一种研磨抛光机的冷却密封结构，包括中心轴、设在中心轴上的托盘、设在托盘上的研磨盘，所述托盘上设有冷却循环水道，冷却循环水道的进水口和出水口均经所述中心轴通过旋转接头与水冷却装置相连；所述冷却循环水道为若干条以中心轴为中心分别构成扇形冷却区，各冷却循环水道在其扇形冷却区内成同心圆之字形分布。本发明由于采用成扇形布置且成同心圆之字形分布的冷却循环水道，使得圆周上的冷却循环水道之间具有相等的距离，冷却循环水道对研磨盘的每一部分的都具有同样的散热效果，而且可以保证冷却水必须完全经过水道回路而没有滞留，确保抛光盘能得到充分和及时的冷却，获得较好的冷却效果。
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公开(公告)号：CN103465146A
公开(公告)日：2013-12-25
申请号：CN201310393917.8
申请日：2013-09-03
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
IPC: B24B29/02
Abstract: 本发明公开了一种多工位立式抛光机，包括机架、工件夹紧回转系统和抛光轮系统；所述抛光轮系统设在机架的中部；所述工件夹紧回转系统为两组通过支架上的水平导轨设在机架上位于抛光轮系统的两侧，且分别与设在机架上的恒压力驱动系统连接沿所述水平导轨运动；所述支架设在机架上的垂直导轨上并与设在机架上的升降机构连接沿所述垂直导轨运动。本发明可通过数控系统控制，具有工件转速按实际要求变化、抛光轮转速预设、预设的抛光压力操持恒定、磨料磨损自动补偿等功能，并能实现对各种外形工件的周边及曲面进行抛光加工。
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公开(公告)号：CN119589536A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202411797359.6
申请日：2024-12-09
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
Abstract: 本发明公开的一种高精度卧式复合磨床，其包括：外圆砂轮组件、内圆砂轮组件和砂轮架以及B轴转塔；外圆砂轮组件与砂轮架相连接，内圆砂轮组件与砂轮架相连接；B轴转塔包括箱体、B轴轴芯、转台轴承和单列圆柱滚子轴承，B轴轴芯与砂轮架相连接，B轴轴芯可转动的设置于箱体内且转台轴承和单列圆柱滚子轴承均设置于箱体内，转台轴承与B轴轴芯的一端相连接以限位支撑B轴轴芯，单列圆柱滚子轴承与B轴轴芯的另一端相连接以支撑B轴轴芯，外圆砂轮组件、内圆砂轮组件的中心共面且与转台轴承的外圈厚度中心面重合。该磨床通过B轴转塔内的结构设置，既实现B轴转塔的高精度，提高了B轴转塔的定位精度，又能实现B轴转塔结构的高刚性与高可靠性。
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公开(公告)号：CN119501766A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202411797652.2
申请日：2024-12-09
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
Abstract: 本发明公开的一种精密卧轴矩台平面磨床，其包括：床身、工作台和磨削机构；床身包括前床身和后床身以及楔块机构，前床身和后床身通过楔块机构相互定位连接；前床身上设置有移动机构和限位机构，工作台设置于移动机构上以使得工作台能够于前床身上往复运动，移动机构与限位机构相连接以缓冲和限制移动机构的运动，磨削机构可移动的设置于后床身上。该精密卧轴矩台平面磨床的前床身与后床身能够楔块机构进行定位连接，确保前床身与后床身的连接准确性，保证工作台和磨头组件运动的垂直度，确保磨削精度和磨削质量。并且，限位机构的设置使得工作台在运行至前床身的两端极限位置时运行平稳，确保了该精密卧轴矩台平面磨床的磨削精度和磨削质量。
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公开(公告)号：CN113290486B
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202010109939.7
申请日：2020-02-23
Applicant: 宇环数控机床股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种多轴抛光头装置，包括通过转轴设在安装座上的具有多个工作面的多轴箱、设在多轴箱内的多个多轴器、与各多轴器连接的主轴、设在安装座一端驱动主轴转动的驱动电机、设在安装座另一端驱动多轴箱转动的换位电机；所述多轴器包括密封的壳体、从壳体周围的不同方向伸出多轴箱工作面的输出轴，各多轴器之间设有贯穿各壳体的多根输入轴组件，每根输入轴组件均通过伞形齿轮对与各多轴器上的一根输出轴连接，各输入轴组件分别安装有错位的从动齿轮；所述主轴上通过与气管连通的气动离合器设有分别与各从动齿轮啮合的主动齿轮。本发明可以解决因装配难度高带来的传动精度不易保证的问题，并改善传动齿轮润滑状况提高设备使用寿命。
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