-
公开(公告)号:CN106521438A
公开(公告)日:2017-03-22
申请号:CN201610979551.6
申请日:2016-11-08
Applicant: 上海理工大学
CPC classification number: C23C14/352 , C23C14/0036 , C23C14/0617 , C23C14/0623 , C23C14/0641
Abstract: 本发明一种具有高硬度和高减摩性能的纳米涂层,在基体上通过多靶磁控溅射方式交替溅射沉积形成CrAlN纳米层和WS2纳米层,靠近基体为CrAlN纳米层,最外侧的一层为WS2纳米层,CrAlN/WS2纳米多层涂层的总厚度2.0-4.5μm,每一CrAlN纳米层厚度5.0nm,每一WS2纳米层厚度0.4-1.2nm。还提供了上述纳米涂层的制备方法,将清洗后的基体置入多靶磁控溅射仪中,在氩、氮混合气氛中交替停留在CrAl合金靶和WS2靶之前,通过调整CrAl靶和WS2靶的功率和沉积时间以控制每一涂层的厚度,最终得CrAlN/WS2纳米多层涂层,本发明的方法具有工艺简单、沉积速度快、成本低、生产效率高等优点。
-
公开(公告)号:CN106119814A
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201610687360.2
申请日:2016-08-18
Applicant: 上海理工大学
CPC classification number: C23C18/32 , C23C18/1637 , C23C18/1662 , C23C18/1844
Abstract: 一种在黄铜上化学镀Ni‑P、Ni‑P‑PTFE复合涂层的表面自润滑技术,先将基体表面抛光处理,经超声波清洗后,对黄铜基体进行化学除油、酸洗活化的前处理工艺,控制Ni‑P层的沉积时间和N‑P‑PTFE镀液中PTFE的浓度,最终获得N‑P‑PTFE涂层作为自润滑层,得到的复合涂层的最小摩擦系数可达0.161。由于适度的Ni‑P层的沉积时间和N‑P‑PTFE镀液中PTFE浓度能够为Ni‑P‑PTFE复合涂层提供更好的沉积条件,使得Ni‑P‑PTFE复合涂层的性能进一步优化,同时由于Ni‑P‑PTFE复合涂层的优良的抗腐蚀性能,该涂层可作为耐摩擦磨损工件的保护涂层,本发明的方法工艺简单、沉积速度快、成本低、结合强度好。
-
公开(公告)号:CN103952742B
公开(公告)日:2016-06-08
申请号:CN201410161668.4
申请日:2014-04-22
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明提供一种具有绝缘层的铜导线,其特征在于,包括:用于导电的铜芯;包覆在所述铜芯表面的铜铝化合物层以及包覆在铜铝化合物层外表面的氧化铝陶瓷层,其中,铜铝化合物层由CuAl、CuAl2和Cu9Al4的混合物组成,铜铝化合物层的厚度为0.5~10μm,氧化铝陶瓷层的厚度为20~99μm。本发明提供一种制备上述具有绝缘层的铜导线的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤A,助镀剂处理;步骤B,热浸镀处理;步骤C,微弧氧化处理。在本发明所涉及的具有绝缘层的铜导线中,绝缘层与基体的结合强度超过40MPa,绝缘层耐热性良好,可以在500℃的高温下安全工作。本发明提供的制备具有绝缘层的铜导线的方法,工艺简单,制备成本低。
-
公开(公告)号:CN103074978B
公开(公告)日:2016-04-27
申请号:CN201310052073.0
申请日:2013-02-18
Applicant: 上海理工大学
IPC: C23C14/08 , C23C14/35 , C03C17/245
Abstract: 本发明公开一种带有紫色装饰薄膜的装饰板材及其制备方法,所述的带有紫色装饰薄膜的装饰板材为层状的结构,包括底层基材和采用磁控溅射方法在底层基材上制备而成的紫色装饰薄膜,所述的基材为玻璃或低熔点、不耐高温的有机板材,所述的紫色装饰薄膜为氧化铈膜,厚度优选为30nm-50nm。本发明的一种带有紫色装饰薄膜的装饰板材,所得的紫色装饰薄膜与基材,特别是玻璃基材具有良好的结合力,制备的过程中无需对基材进行加热,因此制备过程中不受高温环节的限制,并且该制备方法对于环境无污染,操作简单,生产成本低,可以大规模生产。
-
公开(公告)号:CN105483432A
公开(公告)日:2016-04-13
申请号:CN201510881116.5
申请日:2015-12-03
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开了一种钛合金耐磨层,由TiAl2或TiAl3的钛铝中间合金、碳化钨、碳化硼和钛粉组成,在所述的耐磨层中,铝的质量百分比为4~12%,碳化钨的质量百分比为5~15%,碳化硼的质量百分比为1~3%,余量为钛。还提供了上述的一种钛合金激光熔覆用耐磨层的制备方法,先对钛合金样品进行表面清理、打磨;然后称取钛粉、钛铝中间合金粉、碳化钨粉和碳化硼粉制备混合粉末;在样品室中,采用激光在钛合金的表面利用混合粉末进行熔覆;熔覆的过程中采用惰性气体保护,熔覆后冷却;对钛合金熔覆层进行清理、打磨。本发明具有熔覆层硬度高、耐磨性好、适用钛合金范围广、处理效率高的优点。
-
公开(公告)号:CN105296949A
公开(公告)日:2016-02-03
申请号:CN201510813725.7
申请日:2015-11-23
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明提供了一种具有超高硬度的纳米结构涂层,由至少一个TiSiN层和至少一个CrAlN层构成,所述的TiSiN层和CrAlN层交替沉积在基体上。本发明还提供了上述具有超高硬度的纳米结构涂层的制备方法,首先将经抛光处理后的基体送入超声波清洗机,在无水酒精和丙酮中超声清洗;然后进行离子清洗;离子清洗后将基体置入多靶磁控溅射仪并交替停留在TiSi复合靶和CrAl靶之前,通过溅射获得由TiSiN层和CrAlN层交替叠加的纳米尺度涂层。本发明的具有超高的硬度和优良力学性能和抗高温氧化性能,该涂层可作为高速切削刀具及其它高温条件下服役耐磨工件的保护涂层。
-
公开(公告)号:CN105256172A
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201510833195.2
申请日:2015-11-26
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开了一种改进的医用低模量钛合金,由一个高铌低氧的钛合金基体构成,在高铌低氧的钛合金基体的上面设置有一层低铌高氧的表面层。还提供了上述的一种改进的医用低模量钛合金的制备方法,先对高铌低氧的钛合金样品进行表面清理和打磨,然后制备混合粉末,所述的混合粉末由钛粉、铌粉和二氧化钛粉末组成,在所述的混合粉末中,所述的铌的质量百分比为5~20%,所述的氧的质量百分比为0.3~3%,余量为钛;在一个样品室中,在高铌低氧的钛合金的表面采用激光对混合粉末进行熔覆,熔覆的过程中采用惰性气体保护,熔覆后冷却;最后对钛合金熔覆层进行清理、打磨。本发明使钛合金兼具表面强度硬度高、耐磨性好以及整体弹性模量低的优点。
-
公开(公告)号:CN103774090B
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201410044739.2
申请日:2014-02-07
Applicant: 上海理工大学 , 青岛双星橡塑机械有限公司
Abstract: 本发明公开一种含有VN纳米插入层的高硬度TiSiN涂层及制备方法。所述含有VN纳米插入层的高硬度TiSiN涂层由VN层和TiSiN层交替沉积在基体上而形成的,靠近基体的一层为VN层,最上层也为VN层,含有VN纳米插入层的高硬度TiSiN涂层厚度为1.8-3.0μm,每一TiSiN层的厚度为5.0nm,每一VN层的厚度为0.3~0.8nm。其制备方法首先将基体表面抛光处理,经超声波清洗和离子清洗后,再采用反应溅射法在基体上交替溅射VN层和TiSiN层,最终得到最大硬度可达40.2 GPa的含有VN纳米插入层的TiSiN涂层。其制备方法具有工艺简单、沉积速度快、成本低、结合强度高等优点。
-
公开(公告)号:CN104911672A
公开(公告)日:2015-09-16
申请号:CN201510247856.3
申请日:2015-05-15
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开一种用于制备WO3掺杂的二氧化钛光催化膜层的微弧氧化溶液及制备方法和应用。所述用于制备WO3掺杂的二氧化钛光催化膜层的微弧氧化溶液,按每升计算由1-3gKOH、2-6gNa2SiO3、1-3gNaF、5-15gNa2WO4、1-3g三乙醇胺和余量去离子水组成。其制备方法即将KOH、Na2SiO3、NaF、Na2WO4和三乙醇胺加入到去离子水中搅拌混合均匀即得用于制备WO3掺杂的二氧化钛光催化膜层的微弧氧化溶液。利用该微弧氧化溶液可在较高的电压和电流下在纯钛或钛合金样品表面快速成膜。该WO3掺杂的二氧化钛光催化膜层为多孔结构,具有高比表面积、更高的可见光吸收率,同时膜层制备成本低。
-
公开(公告)号:CN103774090A
公开(公告)日:2014-05-07
申请号:CN201410044739.2
申请日:2014-02-07
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开一种含有VN纳米插入层的高硬度TiSiN涂层及制备方法。所述含有VN纳米插入层的高硬度TiSiN涂层由VN层和TiSiN层交替沉积在基体上而形成的,靠近基体的一层为VN层,最上层也为VN层,含有VN纳米插入层的高硬度TiSiN涂层厚度为1.8-3.0μm,每一TiSiN层的厚度为5.0nm,每一VN层的厚度为0.3~0.8nm。其制备方法首先将基体表面抛光处理,经超声波清洗和离子清洗后,再采用反应溅射法在基体上交替溅射VN层和TiSiN层,最终得到最大硬度可达40.2GPa的含有VN纳米插入层的TiSiN涂层。其制备方法具有工艺简单、沉积速度快、成本低、结合强度高等优点。
-
-
-
-
-
-
-
-
-