一种等比例X交叉型三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118244519A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202410408713.5

    申请日:2024-04-07

    Abstract: 本发明涉及一种等比例X交叉型三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法,所述电光调制器在光传播方向上设有单个周期波导,所述波导中央设置有脊波导,所述脊波导在光传播方向上设有第一轻掺杂区(1)和第二轻掺杂区(2);所述第一轻掺杂区(1)的左斜PN结与第二轻掺杂区(2)的右斜PN结在第一轻掺杂区(1)和第二轻掺杂区(2)的交界面形成一个三维PN结。本发明通过构造等比例X交叉型的三维掺杂结构,实现了高效调制的硅基耗尽型调制器;这种调制器旨在提高调制效率和带宽,同时降低功耗,从而为大规模数据传输提供低功耗的解决方案,具有良好的市场应用前景。

    一种片外光发射器件
    73.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116609879A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202310267916.2

    申请日:2023-03-20

    Abstract: 本发明涉及一种片外光发射器件,包括:衬底;下包层,位于所述衬底的上表面,且内部埋设有金属镜;波导层,位于所述下包层的上表面,包括波导和M级同心半圆光栅;上包层,位于所述波导层的上表面;所述波导用于引导光进入所述M级同心半圆光栅;所述金属镜用于将泄露到所述衬底的光反射至所述M级同心半圆光栅;所述M级同心半圆光栅用于将接收到的光向垂直方向发射;所述M级同心半圆光栅的前N级的狭缝的刻蚀深度小于后K级的狭缝的刻蚀深度,其中,M=N+K,且N≤M/2。本发明能够提高器件的发射效率。

    偏振分束旋转器
    74.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105866885B

    公开(公告)日:2023-02-28

    申请号:CN201510031371.0

    申请日:2015-01-21

    Abstract: 本发明提供一种偏振分束旋转器,至少包括:形成在SOI材料的顶层硅中的波导,所述波导至少包括顺次连接的单模输入波导、双刻蚀波导和定向耦合波导;所述双刻蚀波导,包括一端与所述单模输入波导的尾端相连接的第一刻蚀区和位于所述第一刻蚀区两侧的第二刻蚀区,所述第一刻蚀区的高度大于所述第二刻蚀区的高度;所述定向耦合波导,包括相互分离的直通波导和弯曲波导,所述直通波导连接所述第一刻蚀区的尾端,所述弯曲波导位于所述直通波导一侧。本发明提供的偏振分束旋转器分别利用这两个结构的宽带和尺寸小的特点,可以解决传统偏振分束旋转器件不能同时满足宽带特性和尺寸小的缺点。

    一种硅基耗尽型电光调制器及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN114236880A

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202111455348.6

    申请日:2021-12-01

    Abstract: 本发明涉及一种硅基耗尽型电光调制器及其制备方法和应用,包括硅层(1‑9),其特征在于:所述硅层(1‑9)上依次包括P型重掺杂区(1‑5)、P型中等掺杂区(1‑3)、P型轻掺杂区(1‑1)、N型轻掺杂区(1‑2)、N型中等掺杂区(1‑4)和N型重掺杂区(1‑6);所述P型轻掺杂区(1‑1)与N型轻掺杂区(1‑2)形成至少两个纵向PN结,至少三个横向PN结。本发明通过控制离子注入的比例和位置,实现高效调制的硅基耗尽型调制器,且在低压下具有高带宽的优势,可实现低功耗大规模数据传输。

    一种硅基单片集成激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN111600195B

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202010383180.1

    申请日:2020-05-08

    Abstract: 本发明涉及半导体和光电集成技术领域,特别是涉及一种硅基单片集成激光器及其制备方法,包括:衬底层、埋氧化层、硅波导器件、上覆层和三维波导器件;所述埋氧化层上设有图形化的限向结构;所述限向结构内设有激光器结构;所述硅波导器件设置在所述埋氧化层上;所述埋氧化层、所述激光器结构和所述硅波导器件远离所述衬底层的表面形成第一表面,所述上覆层设置在所述第一表面上;所述三维波导器件设置在所述上覆层上。通过在激光器结构有源区上方引入三维波导结构,实现激光器结构有源区和硅波导之间高质量的光学连接。

    一种量子干涉探测芯片及其测试系统

    公开(公告)号:CN112539849A

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN202011299033.2

    申请日:2020-11-19

    Inventor: 陶略 李杨 甘甫烷

    Abstract: 本发明涉及一种量子干涉探测芯片,包括耦合光栅、输入定向耦合器、光栅模式分束器、输出定向耦合器和超导纳米线单光子探测器,耦合光栅用于将片外由自发参量下转换产生的纠缠光子对分别耦合进片上输入定向耦合器的两个输入端口;输入定向耦合器用于将输入的纠缠光子对转变成一个横电基模光子和一个横电二阶模光子;光栅模式分束器对入射的横电基模光和横电二阶模光都具有分光特性,实现模式上的双光子干涉;输出定向耦合器用于将模式干涉结束的一对同为横电基模或者横电二阶模的光子传输至某一输出端口;超导纳米线单光子探测器在低温下吸收一对光子并转换成电流信号被外围测试设备探测。本发明能够提高集成量子光路的密集度。

    一种微小空间三维形貌测量装置

    公开(公告)号:CN112240754A

    公开(公告)日:2021-01-19

    申请号:CN202011284798.9

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本发明涉及一种微小空间三维形貌测量装置,包括光源组件和至少两组探测组件,所述探测组件包括衬底,所述衬底上固设有一层绝缘层,所述绝缘层上设置有若干根相互平行且形状尺寸相同的硅导线,且相邻的硅导线之间距离相等,每根硅导线两端均引出导线与电位测量计相连,所述电位测量计与处理器相连;所述光源组件通过激光对被测样品表面进行逐行扫描,被测样品反射的激光照射到所述探测组件上时,硅导线与衬底之间发生近场耦效应,并使得硅导线与衬底形成的谐振器产生振幅完全抑制,所述处理器根据与硅导线相连的电位测量计输出的连续信号计算出被测样品表面反光点的位置信息。本发明具有体积小、精度高、非接触等优点。

    一种基于非厄米耦合原理的光电子条码系统

    公开(公告)号:CN112200289A

    公开(公告)日:2021-01-08

    申请号:CN202011284812.5

    申请日:2020-11-17

    Abstract: 本发明涉及一种基于非厄米耦合原理的光电子条码系统,所述条码识别装置包括衬底,所述衬底上固设有一层绝缘层,所述绝缘层上设置有若干根相互平行且形状尺寸相同的硅导线,且相邻的硅导线之间距离相等,每根硅导线两端均引出导线与电位测量计相连,所述电位测量计与处理器相连;所述衬底中部设置有用于供激光器发出激光通过的通孔,所述激光器相对于所述衬底固定;所述激光器发出的激光照射在条码上后反射到硅导线上时,硅导线与衬底之间发生近场耦效应,并使得硅导线与衬底形成的谐振器产生振幅完全抑制,所述处理器根据硅导线中电位值为最小值的两根硅导线的位置信息计算出激光反射点的所在的位置。本发明能够为微纳米器件提供条码标识。

    单光子源器件、制备方法及量子存储器

    公开(公告)号:CN109742202A

    公开(公告)日:2019-05-10

    申请号:CN201910142121.2

    申请日:2019-02-26

    Abstract: 本发明提供一种单光子源器件、制备方法及量子存储器,单光子源器件包括:量子点发光层,量子点发光层包括阻挡层及位于阻挡层中的量子点层;压电陶瓷基底,通过压电陶瓷基底以调节量子点发光层的发光光谱中心波长;键合层,键合层位于量子点发光层与压电陶瓷基底之间,通过键合层连接量子点发光层及压电陶瓷基底。本发明通过压电陶瓷基底,使得单光子源器件具有较大的波长调节范围、波长可进行双向调节、可满足紧凑型的片上集成化趋势及测试装置简单的优点。

Patent Agency Ranking