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公开(公告)号：CN116622018A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310757124.3
申请日：2019-03-01
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 难波义典 , 市川贤治 , 藤本阳平 , 吉田裕俊 , 佐藤洋之 , 加藤丈人 , 伊藤剑吾 , 石原寿美 , 东昌弘 , 米田聪 , 青山博一 , 助川胜通 , 岸川洋介 , 平良隆博 , 奥井千亚纪 , 山中拓
IPC: C08F214/26 , C08F214/18 , C08F214/28 , C08F214/22 , C08F2/44 , C08F2/24 , B29C55/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型的含氟聚合物的制造方法。本发明涉及一种含氟聚合物的制造方法，其包括下述工序：在包含聚合单元(1)的聚合物(1)的存在下，在水性介质中进行含氟单体的聚合，由此得到含氟聚合物，上述聚合单元(1)基于下述通式(1)所示的单体。CX2＝CY(‑CZ2‑O‑Rf‑A)(1)。
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公开(公告)号：CN116041605A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202211724278.4
申请日：2019-10-03
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F214/26 , C08F14/26 , C08F2/26 , C08F214/28 , C08F214/18 , C08F216/14
Abstract: 提供一种聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，该制造方法包括在烃系表面活性剂的存在下在水性介质中将四氟乙烯和改性单体聚合而得到聚四氟乙烯的聚合工序，聚合开始时的烃系表面活性剂的量相对于水性介质超过50ppm，上述聚四氟乙烯包含99.0质量％以上的基于四氟乙烯的聚合单元和1.0质量％以下的基于改性单体的聚合单元。
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公开(公告)号：CN112771087B
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN201980062691.9
申请日：2019-10-03
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F214/26 , C08F2/24 , C08F214/18 , C08F214/28
Abstract: 提供一种聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，该制造方法包括在烃系表面活性剂的存在下在水性介质中将四氟乙烯和改性单体聚合而得到聚四氟乙烯的聚合工序，聚合开始时的烃系表面活性剂的量相对于水性介质超过50ppm，上述聚四氟乙烯包含99.0质量％以上的基于四氟乙烯的聚合单元和1.0质量％以下的基于改性单体的聚合单元。
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公开(公告)号：CN113366034B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202080011061.1
申请日：2020-01-31
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种聚四氟乙烯的制造方法，其包括下述工序：聚合工序，在烃系表面活性剂和聚合引发剂的存在下，在水性介质中将四氟乙烯聚合，得到聚四氟乙烯；以及添加工序，在聚合开始后添加选自由自由基捕捉剂和聚合引发剂的分解剂组成的组中的至少一种。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114269840A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080058520.1
申请日：2020-09-07
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 提供一种组合物，其为含有聚四氟乙烯、包含基于通式(I)所示的单体的聚合单元(I)的聚合物(I)、非离子型表面活性剂和水性介质的组合物，其中，上述组合物中的上述聚四氟乙烯的含量相对于上述组合物为10质量％以上，上述组合物中的上述非离子型表面活性剂的含量相对于上述聚四氟乙烯为1.0质量％以上。CX1X3＝CX2R(‑CZ1Z2‑A0)m(I)(式中，X1和X3各自独立地为F、Cl、H或CF3；X2为H、F、烷基或含氟烷基；A0为阴离子性基团；R为连接基团；Z1和Z2各自独立地为H、F、烷基或含氟烷基；m为1以上的整数)。
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公开(公告)号：CN113710709A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202080030292.7
申请日：2020-04-27
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 一种含氟聚合物水性分散液的制造方法，其特征在于，包括下述工序A：对于包含在烃系表面活性剂的存在下聚合得到的含氟聚合物的处理前水性分散液，实施超滤、微滤或透析膜处理、或者它们的组合。
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公开(公告)号：CN113667247A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202110947411.1
申请日：2018-03-30
Applicant: 大金工业株式会社
Inventor： 加藤丈人 , 米田聪 , 藤泽学 , 浅野和哉 , 北原隆宏 , 东昌弘 , 山内昭佳 , 石原寿美 , 岸川洋介 , 新田真之介 , 中野麻里奈 , 吉田裕俊 , 难波义典 , 伊藤剑吾 , 奥井千亚纪 , 青山博一 , 助川胜通 , 山中拓 , 佐藤洋之 , 田中勇次 , 市川贤治 , 藤本阳平
Abstract: 本发明涉及包含含氟聚合物的组合物及其成型体。一种组合物，其特征在于，包含含氟聚合物，包含相对于含氟聚合物为500ppb以上的下述通式(3)所示的化合物，式(3)中，M2为H、金属原子、NR54、具有或不具有取代基的咪唑鎓、具有或不具有取代基的吡啶鎓、或者具有或不具有取代基的磷鎓，R5为H或有机基团、可以相同或不同；q为1或2。通式(3)：(H‑(CF2)8‑SO3)qM2。
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公开(公告)号：CN108473688B
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN201780007262.2
申请日：2017-08-04
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，该方法中不容易生成碳原子数为8以上14以下的全氟羧酸及其盐。一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，该制造方法包括工序(1)和工序(2)，在工序(1)中，将下述物质投入到密闭容器中：聚四氟乙烯；选自由烃、氯化烃、醇和羧酸(其中不包括碳原子数为8以上14以下的全氟羧酸)组成的组中的至少一种添加剂；以及选自由惰性气体(其中不包括上述添加剂)和氧吸附剂组成的组中的至少一种；在工序(2)中，对上述聚四氟乙烯照射放射线，得到在380℃的复数粘度为1×102～7×105Pa·s的低分子量聚四氟乙烯。
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