基于磁场干扰等离子体的非晶硅生长方法及装置

    公开(公告)号:CN106282963A

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201610840597.X

    申请日:2016-09-21

    CPC classification number: C23C16/24 C23C16/44

    Abstract: 本发明提供一种基于磁场干扰等离子体的非晶硅生长方法及装置,生长方法包括以下步骤:1)提供沉积衬底及磁场生成单元,将所述沉积衬底置于所述磁场生成单元生成的磁场内,且保证所述磁场生成单元生成的磁场与所述沉积衬底的表面相平行;2)将所述沉积衬底及所述磁场生成单元置于反应室内,采用化学气相沉积法在所述沉积衬底表面形成非晶硅。在非晶硅生长过程中,通过引入与沉积衬底表面相平行的磁场,磁场可以偏转反应气体中的高速带电粒子,降低所述高速带电粒子对非晶硅生长表面的刻蚀,实现了非晶硅生长速率的大幅提升;同时,非晶硅的微观结构、带隙和折射率与不加磁场干扰时一致。

    一种改善多晶硅薄膜质量的前处理工艺

    公开(公告)号:CN103820767B

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201310736927.7

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 本发明涉及一种改善多晶硅薄膜质量的前处理工艺,其特征在于在铝诱导晶化前,通过控制退火温度和退火时间,有效控制非晶硅中的氢含量;在氮气或氩气保护气体中对非晶硅薄膜进行退火。退火温度为350-500℃,退火时间为0.1-5h。在不同温度下对非晶硅薄膜进行退火处理后,薄膜的氢含量从10%降低到1.4%,从而使通过铝诱导制备的多晶硅薄膜表面干滑完整。本发明可在较低温度和较短时间内制备高质量的多晶硅薄膜。相比于传统AIC制备多晶硅的方法,本发明在AIC之前加了一个退火除氢步骤,可有效的控制前驱体a-Si:H中的氢含量,有利于制备更大晶粒尺寸,应力更小,表面更加平滑完整的多晶硅薄膜。

    一种数据远程采集与管理系统

    公开(公告)号:CN103002004B

    公开(公告)日:2016-03-16

    申请号:CN201210342472.6

    申请日:2012-09-14

    Abstract: 本发明公开了一种数据远程采集与管理系统及其实施方法,所述的系统由1个数据采集和管理中心与多个数据采集与管理分中心组成;中心与分中心间通过无线方式实时传递数据。分中心负责收集各类环境和光伏系统电参数,无线发送到中心,中心负责接收各分中心的数据,经分析,建模,获得不同地区、不同环境下的光伏系统寿命、发电量与环境的关系。通过该系统,数据中心可在远程实时收集不同地区。通过分析不同气候光伏电站的数据,获得不同气候电池模组发电量与环境参数间关系。该系统的特色在于:1、通过GPRS实时无线远距离(>1000Km)传输;2、采用光伏电池、控制器和储能电池组组成连续供能系统,为分中心的数据采集供能;3、通过数据分析,实现不同地区电池寿命预测。

    一种引入驻极体结构的高效太阳能电池及制备方法

    公开(公告)号:CN103681889A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310732585.1

    申请日:2013-12-26

    Abstract: 本发明涉及一种引入驻极体结构的高效太阳能电池及制备方法,其特征在于在常规太阳能电池结构中引入驻极体薄层,以增加太阳能电池的光电转化效率。引入的驻极体结构为以下四种中任一种:①通过对太阳能电池的表面钝化减反射薄膜进行驻极体化处理,使其具有驻极体功能;②或在太阳能电池表面单独沉积驻极体薄层;③或通过在组件封装中引入具有驻极体性质的封装材料;④或是在太阳能电池或组件制备完成后,通过驻极体化手段处理,在电池或组件中诱导出驻极体薄层。本发明不仅适用于晶体硅电池,也适用非晶硅薄膜电池、碲化镉电池、砷化镓电池、铜铟镓硒电池、染料敏化电池和有机电池等其他类型的太阳能电池。

    用于制作透明导电氧化物薄膜的镀膜设备

    公开(公告)号:CN210711711U

    公开(公告)日:2020-06-09

    申请号:CN201921135980.0

    申请日:2019-07-18

    Abstract: 本实用新型提供一种用于制作透明导电氧化物薄膜的镀膜设备,镀膜设备包括阴极镀膜源及载盘,载盘包括追盘部件及承载台阶;通过阴极镀膜源,在同一真空腔内、无需翻转的情况下进行双面镀膜;通过追盘部件,遮挡多个载盘之间的缝隙,实现阴极镀膜源的隔离式布局,避免阴极镀膜源的相互影响;通过承载台阶承载待镀膜件并对待镀膜件进行遮挡,避免透明导电氧化物薄膜的导通,避免引起SHJ太阳电池的短路;通过加固部件,防止载盘的变形,提高产品质量。本实用新型实现了“无应力”双面同位连续镀膜,减小镀膜设备的占地面积、避免待镀膜件的翻转、提高产品质量、具有低成本、高稳定性、广泛的应用前景和经济价值。

    非晶硅/晶体硅异质结太阳电池

    公开(公告)号:CN209104182U

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201822212411.3

    申请日:2018-12-26

    Abstract: 本实用新型提供一种非晶硅/晶体硅异质结太阳电池,包括非晶硅/晶体硅异质结结构,其上表面和下表面分别包括中心区及包围中心区的边缘区;透明导电氧化物薄膜覆盖中心区,且至少显露非晶硅/晶体硅异质结结构的上表面和下表面中的一面的边缘区;金属电极;覆盖薄膜,覆盖薄膜至少覆盖被显露的边缘区。本实用新型通过氮化硅、氧化硅及氮氧化硅的化学惰性及光学折射率可控的特点,使非晶硅/晶体硅异质结太阳电池的稳定性最大化,同时减反射效果最优化,从而达到提高非晶硅/晶体硅异质结太阳电池的稳定性和光电转化效率的双重目的,且具有低成本、高稳定性的优势。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池

    公开(公告)号:CN207282509U

    公开(公告)日:2018-04-27

    申请号:CN201720645616.3

    申请日:2017-06-06

    Abstract: 本实用新型提供一种双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池,包括:n型硅衬底;窗口层,包括具有宽光学带隙的本征非晶硅或者微晶硅以及n型掺杂的非晶硅或者微晶硅;背场层,包括本征非晶硅或者微晶硅以及p型掺杂的非晶硅或者微晶硅;第一透明导电薄膜;第二透明导电薄膜;第一电极;以及第二电极。本实用新型的双面受光太阳电池使用具有宽光学带隙、低缺陷密度的本征非晶硅或者微晶硅以及n型非晶硅或者微晶硅薄膜叠层作为窗口层,有效降低窗口层的缺陷密度,减少对太阳光的吸收损失,提高太阳电池和光伏组件的光电转换效率和发电功率输出。与现有的HIT电池相比,本实用新型具有更宽的工艺窗口,有利于大批量生产的工艺控制和管理。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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