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公开(公告)号：CN117551969A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202311625370.X
申请日：2023-11-30
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种细长管道内壁同步清洗镀膜装置及其使用方法，它属于表面处理领域。它解决了现有细长管道内镀膜涂层均匀性差，污染物难以排出的问题。装置：包括电源Ⅰ、进水管Ⅰ、进气管Ⅰ、出水管Ⅰ、法兰Ⅰ、真空室、进气孔Ⅰ、卡具Ⅰ、靶Ⅰ、导轨、滑块、控制器、往复电机、待镀管、抽气口、靶Ⅱ、卡具Ⅱ、进气孔Ⅱ、法兰Ⅱ、出水管Ⅱ、进气管Ⅱ、进水管Ⅱ和电源Ⅱ。本发明装置采用相邻的两个柱状短靶同时进行细长管道内清洗和镀膜，保证了镀膜区域的清洁性和基体表面活性；保证了沉积膜层的均匀性，并避免了能够移动的装置与待镀管内壁的接触污染；通过控制器实现对待镀管运动方向和速度，以及电源极性和参数的自动控制，确保工艺过程的稳定性和连续性。
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公开(公告)号：CN116607130A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310562516.4
申请日：2023-05-18
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C16/515 , C23C16/02 , C23C16/26 , C08J7/04
Abstract: 一种等离子体碳化橡胶表面增加润滑性的方法，本发明涉及一种等离子体碳化橡胶表面增加润滑性的方法。本发明的目的是为了解决现有技术在橡胶基体表面摩擦系数大，耐磨性差的问题，本发明采用等离子体技术处理橡胶表面，轰击掉橡胶表面的H元素，在橡胶表面形成一层碳化层。之后橡胶表面进行C注入，提高膜基结合力，再沉积含Si的过渡层，最后沉积DLC膜层。沉积类金刚石膜层的橡胶摩擦系数仅0.22。本发明应用于橡胶表面耐磨减磨处理技术领域。
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公开(公告)号：CN116065116A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202310089777.9
申请日：2023-02-09
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种等离子‑冷喷涂的复合喷涂装置及复合涂层的喷涂方法，涉及一种喷涂装置及复合涂层的喷涂方法。为了解决现有的冷喷涂涂层制备工艺存在孔隙、裂纹造成涂层的力学性能差的问题。本发明等离子‑冷喷涂的复合喷涂装置由冷喷涂设备、等离子喷涂设备、机械手臂和基材构成；本发明分别用冷喷涂和等离子喷涂复合喷涂形成复合涂层，等离子喷涂和冷喷涂的复合作用降低孔隙，克服冷喷涂制备复合涂层时由于硬质增强相机械咬合不良而出现的孔隙率高的问题，提高复合涂层的致密性和硬度等力学性能，增加了复合涂层增强相的喷涂效率。可以实现多种异种金属材料的复合喷涂。
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公开(公告)号：CN116031133A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202310058771.5
申请日：2023-01-17
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 长管道内部镀膜分段式进气阳极电位调制等离子体均匀装置，本发明为了解决现有长管道内表面膜层沉积不均匀的问题。本发明分段式进气阳极电位调制等离子体均匀装置中的分段导气管阳极是在中心导管的周向设置有多个六边形管，多个分段导气管阳极依次相连形成导气管组件，导气管组件的中心导管内穿设有多根绝缘导线和拉紧钢丝，每根绝缘导线分别与分段导气管阳极中的导线接头电连，导气管组件中相邻分段导气管阳极之间插接有绝缘接头，且导气管组件的两端插接有端部绝缘接头，端部绝缘接头上连接有波纹管，波纹管与拉紧装置相连。本发明可根据被镀管道的长短，进行任意的组合增减导气管，调节进气的均匀性，提高管道内镀膜均匀性和膜层质量。
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公开(公告)号：CN113293357B
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202110574319.5
申请日：2021-05-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C16/26 , C23C16/02 , C23C16/04 , C23C16/517
Abstract: 一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法，本发明一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法。本发明的目的是为了解决现有长管道内壁沉积类金刚石涂层过程中出现的等离子体密度低，膜层较厚之后绝缘沉积效率低的问题，本发明将射频和脉冲电源通过射频与脉冲的匹配电源网络复合连接，以Ar气、TMS和乙炔为反应气体，经过对管内壁的打磨清洗干燥、辉光刻蚀、沉积过渡层、将DLC涂层沉积于(长0.2m‑30m，直径50mm‑500mm)管内表面，膜的厚度达10μm以上，膜层沉积速率0.2μm/min。本发明应用于材料制造领域中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115161589A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202210877479.1
申请日：2022-07-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种管内壁离子渗氮后原位沉积PVD涂层的装置及方法，本发明涉及一种管内壁离子渗氮后原位沉积PVD涂层的装置及方法。本发明目的是解决管内表面处理效率低以及涂层与基体之间界面结合强度较低、耐磨性较差的问题，装置包括金属阴极弧源、挡板、第一辅助阳极、管筒件、阳极杆、第二辅助阳极、Ar进气管、N2‑H2混合气进气管、热电偶、第一绝缘屏蔽罩、第二绝缘屏蔽罩、真空室、金属阴极弧直流电源、第一辅助阳极直流电源、脉冲偏压电源和第二辅助阳极直流电源；本发明连续进行管内表面渗氮和PVD涂层沉积过程，有效提高管内表面处理效率，并提高涂层与基体间结合强度和耐磨性。本发明应用于管筒件内壁渗氮后原位沉积PVD涂层领域。
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公开(公告)号：CN111748789B
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202010663232.0
申请日：2020-07-10
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C16/26 , C23C16/503 , C23C16/515 , C23C16/517 , C23C14/16 , C23C14/06
Abstract: 一种石墨阴极弧增强辉光放电沉积纯DLC的装置及其方法，本发明涉及一种石墨阴极弧增强辉光放电沉积纯DLC的装置及其方法。本发明的目的是解决现有金属阴极弧增强辉光放电制备DLC时金属元素对DLC的“污染”问题，本发明在石墨阴极弧与阳极之间构建放电通路，含碳气体在放电通路上通入，通入的含碳气体被石墨阴极弧发射出来的高密度电子离化，沉积在工件表面形成纯DLC。含碳等离子体中离子与原子的比例可以通过改变阴、阳极之间的放电模式以及调节放电参数来控制。本发明避免了金属靶增强辉光放电制备DLC时，金属掺杂对摩擦学性能的不良影响。本发明应用于等离子体增强化学气相沉积制备DLC领域。
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公开(公告)号：CN113564517A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110836283.3
申请日：2021-07-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种低温快速韧性渗氮后原位沉积PVD涂层的装置及沉积方法，本发明涉及一种低温快速韧性渗氮后原位沉积PVD涂层的装置及沉积方法。本发明的目的是解决现有问题，首先利用电弧增强辉光放电技术对研磨抛光清洗后的高速钢基体表面进行Ar+、H+等离子体刻蚀清洗；然后往真空室内连续通入高纯氮气、高纯氢气或高纯氮气、高纯氢气和惰性气体氩气，进行等离子体渗氮处理；最后在相近温度下，利用电场增强阴极弧技术原位沉积PVD涂层。本发明在传统设备上增加了辅助阳极，以及在一侧阴极弧源前增加了L型挡板，实现了低温快速韧性渗氮后原位沉积PVD涂层。本发明应用于原位沉积PVD涂层领域。
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公开(公告)号：CN113293357A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110574319.5
申请日：2021-05-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C16/26 , C23C16/02 , C23C16/04 , C23C16/517
Abstract: 一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法，本发明一种脉冲复合射频增强空心阴极长管内壁沉积类金刚石涂层方法。本发明的目的是为了解决现有长管道内壁沉积类金刚石涂层过程中出现的等离子体密度低，膜层较厚之后绝缘沉积效率低的问题，本发明将射频和脉冲电源通过射频与脉冲的匹配电源网络复合连接，以Ar气、TMS和乙炔为反应气体，经过对管内壁的打磨清洗干燥、辉光刻蚀、沉积过渡层、将DLC涂层沉积于(长0.2m‑30m，直径50mm‑500mm)管内表面，膜的厚度达10μm以上，膜层沉积速率0.2μm/min。本发明应用于材料制造领域中。
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公开(公告)号：CN101649445B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200910306400.4
申请日：2009-08-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C23C14/48
Abstract: 一种内电极移动式内表面等离子体离子注入方法，涉及一种等离子体材料表面改性方法。它解决了解决现有的内表面等离子体注入方法对小管径管筒的离子注入效果差的问题。它的方法是：一、采用等离子体源在真空室内产生等离子体，将待处理的管筒放置于所述真空室内，并对待处理的管筒施加高脉冲负偏压；二、将一根辅助阳极放置在待处理的管筒内，并将辅助阳极接地，所述辅助阳极与待处理的管筒之间产生电场，等离子体中的离子在电场作用下进入到待处理的管筒内部，并注入到待处理管筒的内表面上；三、使所述辅助阳极沿着待处理管筒的轴线运动，实现待处理管筒的整管内表面离子注入。本发明适用于处理内径较小的管筒内壁的离子注入。
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