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公开(公告)号:CN102633230A
公开(公告)日:2012-08-15
申请号:CN201210125332.3
申请日:2012-04-26
Applicant: 厦门大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 一种基于纳米球刻蚀技术制备硅纳米柱阵列的方法,涉及一种Si纳米结构。将硅片清洗后,利用反应离子刻蚀系统对硅片进行活化处理,获得具有亲水性的硅片表面;在硅衬底上采用旋涂法自组装单层聚苯乙烯纳米球;利用反应离子刻蚀系统调控单层聚苯乙烯纳米球的直径,得到不同直径的单层聚苯乙烯纳米球;将单层聚苯乙烯纳米球作为掩膜,利用掩模和感应耦合等离子体刻蚀技术进行刻蚀,交替使用SF6和C4F8进行刻蚀和侧壁的保护;用有机试剂去除掩膜及刻蚀过程中所产生的副产物,最终得到硅纳米柱阵列。
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公开(公告)号:CN217745104U
公开(公告)日:2022-11-08
申请号:CN202221295742.8
申请日:2022-05-27
Applicant: 厦门大学
Abstract: 本实用新型涉及一种手持式深紫外面光源消杀灯及消杀装置,装置呈手持条形扫描灯状,包含:采用均匀面光源设计的深紫外LED阵列,阵列上方嵌套铝反射组件;反射组件上方置有石英玻璃片,可有效保护装置免受污染;阵列基板下部紧贴水冷散热模块,水冷管道通过两个接口连接水冷箱作为散热器;装置外部封装呈条形灯状,包裹住内部LED阵列、反射组件与散热模块;LED阵列通过外接电源供电。本实用新型中的反射组件内置反射凹槽,对应于每一颗LED芯片,可改善深紫外LED的朗伯出光角度,得到近平行深紫外光。装置采用手持式设计,可在保证高效消杀的前提下提升便携性。
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